1. 建模任务 1E8H%2$ V 1.1.
模拟条件
74K)aA
光源: EML Emitter (Unit source)
4'SaEsA~ 偶极子方向: Polarization
*hVb5CS Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization)
upypxC
波长: 380~780 nm (10 nm step)
3Y
z]8`C 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step)
XGfzEld2" =<{h^-j;a 1.2 堆栈
结构 ITyzs4"VV XHxz @_rw
v f`9*x F naz:A 2. 建模过程 W`$[j0 !@u&{"{` 2.1创建新的项目
文件 \a\= gn S5N@\ x
%>Bko,ET fk>l{W}e) 2.2 使用材质或层定义 1D 结构
Qyz>ZPu}sz J58#$NC
`'
bM"fk& XaW4C-D& 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter)
Ah-8"`E Fn!SGX~kx$
7JI:=yY!>: b^ sb]bZW 3. 结果分析 XA1f' Kk JSgpb?( 极坐标图结果
xP{-19s1] EKuSnlTXba
xuUx4,Z IaLMWoh 等高线图结果
R:/ha(+ p<KIF>rf|