1. 建模任务 @sgT[P*ut 1.1.
模拟条件
5E\<r/FeJ
光源: EML Emitter (Unit source)
qUDz(bFk/ 偶极子方向: Polarization
|=^#d\?]j Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization)
qUoMg%Z%l
波长: 380~780 nm (10 nm step)
LrM.wr zI/ 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step)
(IWix){ syC"eH3{ 1.2 堆栈
结构 cyHak u+ aaqd:N)
VhH]n yi7D 3w<j:\i 2. 建模过程 xvx\H' $ )TF,-#x 2.1创建新的项目
文件 a7v[l04 Hh/
-^G
_/sf@R {YKMQI^O/ 2.2 使用材质或层定义 1D 结构
4MtqQq4% rlO%%Qn`
-t~B@% i9EMi_% 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter)
\xO2WD U@v8H!p^i
CI,`R&=xO Nh\8+v*+{ 3. 结果分析 -o!,,XYj . n;k97>m${x 极坐标图结果
"<. I>8 @=V~
i[t=@^| J!
6z 等高线图结果
l-^XW?CfL PRk%C0`