[技术]VirtualLab Fusion中的光学各向异性介质 [复制链接]

摘要 \c:$eF  
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光学各向异性，也被称为双折射，是产生各种光学现象及其相关应用的原因。VirtualLab Fusion提供了一种快速和严格的场跟踪分析算法，该算法应用于S矩阵求解器，并工作在k域。在本应用案例中，介绍了各向异性介质的基本配置。 LWF,w7v[L  
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目录中的各向异性介质 (h3L=  
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定义各向异性介质 P0n1I7|  
双轴晶体由三个方向的主折射率定义； kyJbV[o<#  
单轴晶体由o折射率和e折射率定义; !#c'| *k  
一般各向异性介质可以通过直接定义介电常数张量建立。 RSp wU;o6z  
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各向异性介质预览 Tnp P'  
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预配置晶体 f"ndLX:'}  
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VitualLab Fusion提供了一系列预设的晶体介质，可以从介质(Media)目录中访问。用户还可以在目录中导入和导出自定义的介质。 @Vre)OrN#  
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各向异性涂层 m2j&0z  
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各向异性涂层可以在涂层(coating)目录中找到，并应用于VirtualLab Fusion的所有光学表面。 R~\R>\  
各向异性晶体板 q!$s<n  
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各向异性分层介质组件 nkW})LyB\  
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各向异性表面 q[&Kr+)j  
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波片计算器 pU$k{^'UK  
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晶体板组件(Crystal Plate Component)和主窗口的计算器模块(Calculators)允许访问波片计算器，它可用于确定具有给定特性的波片的厚度和相位延迟。