摘要 +qE,<c}} y^5T/M 光学各向异性,也被称为双折射,是产生各种光学现象及其相关应用的原因。
VirtualLab Fusion提供了一种快速和严格的场跟踪分析算法,该算法应用于S矩阵求解器,并工作在k域。在本应用案例中,介绍了各向异性介质的基本配置。
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d<e+__2 z7D*z8,i 目录中的各向异性介质 m
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r=REa0 定义各向异性介质 TsoCW]h 双轴
晶体由三个方向的主
折射率定义;
=ip~J<sw& 单轴晶体由o折射率和e折射率定义;
9/@FADh 一般各向异性介质可以通过直接定义介电常数张量建立。
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@W% 各向异性介质预览 PT
0Qzg g6x/f<2x m^W*[^p 预配置晶体 R !:eYoQ Vu_7uSp,) VitualLab Fusion提供了一系列预设的晶体介质,可以从介质(Media)目录中访问。用户还可以在目录中导入和导出自定义的介质。
W)G2Cs?p cij]&$;Q u K+9gTv 各向异性涂层 1R^XWAb 0:7v/S!: 各向异性涂层可以在涂层(coating)目录中找到,并应用于VirtualLab Fusion的所有光学表面。
]{q-Y<{" 各向异性晶体板 -N /8Ho ej)BR'* :pL1F)-* 各向异性分层介质组件 $9LGdKZ_D &etL&s v =rf)yp-D 各向异性表面 yBXkN&1=%;
^?sSsHz 1[fkXO{ 波片计算器 Zpn*XG W07-JHV% 晶体板组件(Crystal Plate Component)和主窗口的计算器模块(Calculators)允许访问波片计算器,它可用于确定具有给定特性的波片的厚度和相位延迟。