[技术]元件内部场分析仪:FMM [复制链接]

摘要 W3~u J(  
`)cI^!  
                               <y7{bk~i  
p&I>xu8fl  
Field Inside Component Analyzer: FMM使用户能够分析电磁场在微纳米结构内部的分布。为此，任意周期结构(包括透射和反射、介质或金属光栅)内的场通过应用傅里叶模态方法/严格耦合波分析法(FMM/RCWA)来计算。还可以指定场的哪一部分应该可视化:前向传播的场、后向传播的场或两者都要可视化。 G@P;#l`(D  
OV{v6,>O  
寻找元件内部场分析仪:FMM t,YRM$P  
g;Ugr8  
                        syu/"KY^!  
M"*NV(".g  
元件内部场分析仪:FMM是光栅光学设置的专用功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 k -G9'c~  
O.jm{x!
m  
e (]]  
U-DQ?OtmC@  
评估模式 '/`O*KD]  
|ru!C(  
                                                       kk5&lak2V  
3>n&u,Xe  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以只计算前向或后向传播模式，或两者的结合。 Tu-lc)  
T[4xt,[a  
<,$*(dX)(  
qG,h 1  
          前向传播模式                    后向传播模式             前向和后向传播模式 l^I?@{W  
SE*;6&yL  
评估区域                                                     #_^p~:  
<yl@!-'J7  
aNry>2:  
E 14DZ  
光栅类型                                                                 G-i2#S   

!{*yWpZ:  
元件内部场分析仪可以对任意形状的光栅结构进行分析。这里有几个例子。 :.=:N%3[  
l!}gWd,H  
<k[_AlCmsg  
t{UVX%b  
光栅表面采样 Q=! lbW  
sDs.da#*2  
     ,7:GLkj  
a5Vlfx  
光栅表面采样                                                                   r1F5'?NZ(0  
G1it 3^*$  
对光栅结构进行充分的采样意味着采样效应不应明显地影响产生的场。例如，如果RCWA层分解太粗糙，则可能会由于剖面中的大采样间隔而产生额外的影响。 l`~
$cK!  
gK~Z Ch