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1. 摘要 }^K/?dM
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为了控制用于 AR/MR 应用的光导设备的均匀性和效率，有必要在某些区域，例如 在扩展和输出耦合光栅区域，引入变化的光栅参数，例如填充因子或光栅高度值。 wj|x:YZ*
为此，VirtualLab Fusion 能够在一个区域内引入平滑变化的光栅参数，其中可以以非常不同的方式配置所需的变化。 这还包括一个工具，用于研究针对特定入射条件和光栅参数提供的衍射效率。 这个例子解释了如何应用这些工具。 X0+fsf<H}
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?!:{UXl >Dg#9 2. 建模任务的说明 SnTDLa
.2\0~x"" 在光导上引入连续调制的光栅参数（例如，填充因子）。 w[Ep*-yeI
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 hvt@XZT agOk*wH5 3. 带有附加引导的常规工作流程 ;}.Kb rp :wQ H7 起点是一个现有的、可执行的光导系统，它具有基本的几何配置（所需的距离和定位的光栅区域）和光栅规格（方向、周期、阶数）。 f|a DTWF • Construction of a Light Guide [Use Case] ] yX@'f • Light Guide Layout Design Tool [Use Case] #S +Z$DQD 需要参数调制的区域必须使用真实的光栅结构进行配置。 -#A:`/22 • How to Set Up a Lightguide with Real Grating Structures [Use Case] 3rf#Q }" • Simulation of 1D-1D Pupil Expander with Real Gratings [Use Case] ^!;=6}Y R 足迹和光栅分析工具用于指定光栅参数变化的所需范围，在光栅相互作用的指定条件下严格计算相应的瑞利系数，并生成可以定义实际参数变化的光学设置 . ~%|G+m> • Footprint Analysis of Lightguides for AR/MR Applications [Use Case] H. J5i~s
注意：光栅调制是为单个光栅区域定义的。 22KI]$D#f
)3z]f2 4. 打开足迹和光栅分析工具并设置光学装置 yNJAW M7
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{@ 5. 足迹和光栅分析工具 X qR{.jF.
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 2Q$\KRE 5y _" 6. 光栅参数和相关范围的选择 dTD5(}+ J
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• 可以同时改变一个或两个光栅参数。 ^^$vR[7
• 参数空间的采样可以相对粗略，因为随后将在计算点之间应用插值技术。 8gmn6dC f
• 该表列出了光栅的所有可用参数。 对于在一个区域内引入调制光栅参数，不允许使用改变光路的参数（如周期等）。 RyRqH:p)3
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查找表是针对在足迹和光栅分析工具的第一步中确定的光栅参数和 FOV 模式的定义变化计算的。 查找表会自动保存到指定文件夹： zw: /!MS
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 `5 "/dC 'rV2Bt, 8. 光栅性能的研究 B {i&~k z(d4)z 8'6  8SD}nFQ
 2_olT_# TSyzdnMvz 9. 从查找表加载瑞利矩阵 V}`M<A6: P6OM)>C  BpXEK.Xw
 p6blD-v q lY\*{x4 10. 更新光学系统的产生 _XN~@5elrC s}b*5@8|tA  tq E>Zx=X C SL4P)
 '{D%\ w5{ 11. 光栅调制配置 s 4IKSX $ T)d!$  ~ iT{8
@dhH;gt.I 12. 基于采样位置或网格的调制 EC dfLn *c WRMz]|+ }4  &@'V\5G
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 s @M LI$L9eNv;Y 13. 基于解析描述的调制 ?lG;,,jc,W
G +Ei#:W,
 o(SuUGW W,'3D~g8 14. 基于数学描述的调制 >huq t|S*9 j) <[j&OWw  ht$ WF
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 l 2M/ ,@G cl#OvQ 了解更多 8| _K
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