切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 673阅读
    • 0回复

    [技术]微透镜阵列后光传播的研究 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7081
    光币
    29546
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-01-08
    1. 摘要 i Bi7|  
    ^Lsc`<xC  
    随着光学投影系统和激光材料加工单元等现代技术的发展，对光学器件的专业化要求越来越高。微透镜阵列正是这些领域中一种常用元件。为了充分了解这些元件的光学特性，有必要对微透镜阵列后各个位置的光传播进行模拟。在这个应用案例中，我们将分别研究元件后近场、焦区以及远场特性。 |2qR^Hd&5  
    &\&'L|0F  
     &@=u+)^-{  
    jz %;4e~t  
    2. 系统配置 l!\1,J:}Z  
    ` !zQ  
     w|&,I4["  
    ov1Wr#s  
    3. 系统建模模块-组件 dj3|f{kg{  
    '!pAnsXfO  
     lxm*;?j`W  
    ah 4kA LO  
    4. 总结—组件…… 3b<: :t  
    ]9fS@SHdx  
     D._{E*vg  
    +VwV5iy[`  
    仿真结果 Z/xV\Ggx  
     D=2~37CzQ1  
    1. 场追迹结果—近场 !{ $qMhT  
    W5pn;u- sz  
    =\M)6"}y}  
    '-`O. 4u  
    /d[Mss  
    2. 场追迹结果—焦平面 6@&fvf  
    <[bQo&B2 E  
     a/#+92C  
    F@g17aa  
    3. 场追迹结果—远场 KCE=|*6::|  
    P2O\!'aEh  
    TS1pR"6l  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表