有很多的过程可以被称之为反演工程,但在Essential Macleod中,该术语的意思是用来识别理想设计的和实际生产尝试之间的差异。该功能大致可以概括为“出了什么问题”。这一过程类似于
优化,在优化过程中,将初始设计进行优化,以满足一组优化目标。优化的目标是测量出来的、有问题的膜层性能,但有的时候会有很复杂的情况。在正常的优化中,经常会有多个解决方案,但是,由于我们通常会从中选择一个合适的设计,所以多个解决方案很少会带来麻烦。在反演工程中,只有一个正确
答案,多个解决方案可能是灾难性的,那么怎么才能知道我们是否得到了正确的答案?这一点没有完全严格的测试方法,因此我们只能利用所掌握的关于
镀膜的所有知识来评估结果的合理性。我们还利用我们的知识和经验以及各种不同的约束来指导过程。同时,作为目标的测量结果应尽可能精确,这一点至关重要。因此,尽管反演工程本质上是一个优化器,但它的
结构与任何优化工具都完全不同。
AtT"RG-6 !c." 我们可以看一个在400nm至700nm区域NBK7玻璃上镀减反射膜层反演工程中的应用。这是使用四层SiO2和Ta2O5,我们在每个Ta2O5层中引入误差,在第四层中,靠近基板厚度+10%,在较厚的第二层中厚度-10%。正确设计和错误设计的反射率如图1所示,其中考虑了基板背面的影响。
H}a)^90_ 图1.橙色曲线表示无误差四层设计的性能,黑色曲线表示有误差的性能。这两条曲线都包括基板后表面的影响。
3FuCW pd7O`.3 我们要做的第一件事就是通过File-New子菜单设置中创建新的反演工程。该工具立即要求导入正确的设计,图2,Next,图3,是我们需要的基板,默认是从设计中读取的。如果在后表面变黑或磨平的情况下测量性能为反射率,则应使用Wedge属性。最后,我们需要导入测量性能。图4显示了这个阶段工具的外观。
LhZZc`|7t 图2.反演工程工具的对话框,其中应输入无错误设计的路径。 )5'rw<:="
A{M+vsL 图3.反演工程中的第二个和第三个对话框,我们在其中输入基板细节,然后输入测量的性能。性能可以是反射率、透射率或椭圆参数。 MyqiBGTb
iA&oLu[y3 图4.输入性能后,显示屏将显示测量的性能以及从正确设计中计算得出的性能。有各种可用的命令,可以减少目标点的数量、阻止某些目标区域等
\d ui`F"Cc !6{Jq] 可用两种优化技术:Simplex和Differential Evolution。和通常一样,单纯形速度更快,但更容易受到局部极小值的影响。通常我们先试试Simplex。每个技术都有一些相关的参数,然后对工具可以接受的变化量有限制。所有这些都是为了指导这个过程找到正确的解决方案。这些基本约束可以在控制参数对话框(图5)中进行调整,可以通过Adjust菜单进行访问。
l_ZO^E~D_ 图5.控制参数对话框,可以在其中设置许多控制过程的参数。所示的选项卡允许设置一些控制层参数优化的参数。Optimizer选项卡允许在Simplex和Differential Evolution之间进行选择。 5U3qr*/ ;m
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