切换到宽版

Zemax光学设计从入门到精通	Zemax光学设计从基础到实践	Zemax光学设计实践基础(陈家璧)	ZEMAX光学系统设计实战
讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商	微小光学与微透镜阵列	光学设计与光学元件	计算光学带来的成像革命

576阅读
2回复

[讨论]H4冲氧不稳 [复制链接]

上一主题下一主题

离线bilong

发帖: 191

光币: 47

光券: 0

只看楼主正序阅读楼主发表于: 2024-09-15

此帖悬赏结束
最佳答案：10 光币，最佳答案获得者：度魔银

我们有台镀膜机H4电子枪充氧量用的压控，设计充到1.0-2，但每一锅都不太稳定，有时候充到7.5-3，有时候充到8.3-3，也有能充到1.0-2的，H4是手动熔的，一般就镀普通AR,导致分光变来变去，稳定不住，请教大佬们，这种情况是药里面杂质多还是压控控制系统有问题？应该怎么排除

分享到

离线度魔银

助理工程师

发帖: 84

光币: 495

光券: 0

只看该作者 2楼发表于: 2024-09-20

最佳答案奖励：+10 光币

1.手动融料重复性不好
2镀膜机真空度是否有漏气现象
3.充氧控制改固定参数
4.真空计污染导致真空不准确

离线bilong

发帖: 191

光币: 47

光券: 0

只看该作者 1楼发表于: 2024-09-20

回度魔银的帖子

度魔银:1.手动融料重复性不好 \*t\=4
2镀膜机真空度是否有漏气现象 XY'=_5t
3.充氧控制改固定参数 ZH Q?{"
4.真空计污染导致真空不准确 (2024-09-20 10:01) .+9*5

好的，我们朝这几个方向试试，检测过不漏气，定量充氧真空度会不会差异很大