1.目前难题,膜层牢固度不够,膜裂严重 M|xs>+r*
2.目前镀膜工艺 bL]NSD
设备:光驰1550 C4^o=
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镀膜前60度恒温40分钟 !omf>CW;ud
第一层不使用离子源清洁、同时第一层不使用离子源辅助 XPQY*.l&.
TI3O5打底厚度200nm 2\J-7o=P
功能层:石英环/TI3O5交替镀膜 XdxSi"+
功能层使用离子源辅助镀膜 W 2.Ap
离子源工艺能量为:500V/500mA )7s(]~z
3.听说有加硬的方法,想请教一下各位好心前辈一些问题 8%Hc%T[RnT
(1)加硬之后不会对PMMA光学性能产生影响吗,例如,透射率,折射率 o{?R z3z
(2)有没有可以加硬不改变PMMA光学性能的厂家推荐。 dNfME*"yN