摘要 Ps 4 ZFX D `yEwpV^ 如今，大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统，结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的
物理光学方法对此类设备进行详细建模，包括所有效应（例如相干、偏振和
衍射）。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力，该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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By)u-)g9 h-#1U3d 建模任务：专利WO2018/178626 ^D{lPu
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X4|4QgY ~P . I < 任务描述 j%IF2p2 aEt/NwgiQ 
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m 光波导元件 QDx$==Fo qS| \JG 使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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GfM0 n>>Qn&ym 光波导结构 c!K]J _)T5lEFl= 使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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sEJC-$ _Q[$CcDEE 光栅#1:一维倾斜周期光栅 s $D ^ >0 p Z: F:
(Qo I<j"" 几何布局展示了2个光栅：
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kE9esC 3 •光栅1耦合器：层状（一维周期性），例如倾斜光栅
. mLK`c6 •光栅2 EPE和输出耦合器：交叉光栅（二维周期，非正交）
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UcOk3{(z$q L >y J 光栅#2：具有菱形轮廓的二维周期光栅 PYbVy<xc fC, :{} T&4 qw(\G 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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9l,a^@Y: $6OkIP. 可用
参数：
ojyIQ k+ •周期：400纳米
R }^~^# •z方向延伸（沿z轴的调制深度）：400nm
Lzu.)C@Amx •填充系数（非平行情况下底部或顶部）：50%
s<qe,' Y •倾斜角度：40º
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])xx<5Jt4 :8CvRO*< 91 =OF*w 总结—元件 MrZh09y fF b_J`'ue 8"sb; 具有非正交二维周期的菱形（菱形）光栅结构，通过定制接口实现。
0"CG7Vg,zh \jOA+FU [ 
Ty vtm x M r E}%KsZ 可用参数：
~//fN}~R •周期（锥间方向）：（461.88纳米，800纳米）
uV!^ ,,~ •调制深度：100nm
6d_'4B •填充系数：65%
Vx~,Uex0+ •菱形网格的角度：30°
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:x tXQza"- 6Yx4lW BR? 总结——元件 gb H<]? xuq v 6b. 
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!o:f$6EA~C spt6] "Ni 结果：系统中的光线 1v71rf&w 8C*c{(4 
Y;?{| 9I6a"PGDb 结果：
xai*CY@cQ eEuvl`& 
;M)QwF1 ;7} VBkH 结果：场追迹 ,6-:VIHQ Tj:B!>> 
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