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    [技术]用于期望视场中光导耦合的二元光栅的优化 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-12-25
    摘要 C f+O7Y`^  
    aTPpE9Pa&  
    $4L=Dg  
    S-L6KA{  
    耦合光栅通常用于将期望视场(FOV)内的光发射到光导结构中,VirtualLab Fusion可用于研究此类耦合光栅的性能。在所有期望角度上获得均匀的耦合效率是一项具有挑战性的任务,来自Dynardo的软件optiSLang通过使用VirtualLab Fusion的严格光栅分析工具作为计算内核,提供了执行此类优化任务的有效方法。 ).&$pXj  
    YV2^eGr.  
    优化任务 U} g%`<  
    ~PV>3c3l=  
    5= F-^  
    CZ0 {*K:  
    优化工作流程 :<jf}[w!  
     应用以下优化工作流程来设计用于有效光导耦合的二元光栅 g_}@/5?y  
    1. 定义输入 6)?TWr'Ke  
    2. 执行仿真 1%+0OmV&  
    3. 计算输出 KYeA=  
    4. 检查目标 'fgDe  
    5. 执行优化 QKF2_Acc   
     根据优化策略,新算法定义了新的输入参数 N* z<VZ  
     原则上来说这是循环重复过程,直至目标达成 A8A+ImwO"  
    85X^T]zo  
    Ea3tF0{  
    %tu{`PN<  
    仿真结果和优化函数的配置 nU`;MW/^w  
    ht=yzJ9Pr  
    )zt5`"/o  
    q`\lvdl  
    OptiSLang的优化结果 mki=.l$O  
    |W::\yu6  
    ?/u&U\P  
    gF:wdcO  
     优化结果作为评价函数的函数绘制 1ri#hm0x\  
    - 平均效率 LZ@^ A]U  
    - 均匀性对比 O}%=c\Pb  
    kz??""G7/  
     帕累托前沿表示两个优化函数之间的最佳折衷 im?nR+t+X  
    )-sEm`(`I9  
    优化结果的高级评价 .K0BK)axO  
    M,[ClQ 9  
    /@ OGYYH,M  
    SnXLjJe  
    分析优化结果的耦合效率 !K@y B)9  
    |n~v_V2.0  
    >B9rr0d0  
    wgufk {:  
     最后,利用VirtualLab Fusion软件对优化结果进行耦合效率分析 R@EFG%|`_  
     结果,均匀性对比显著降低,但却牺牲了整体效率 ]A\n>Z!;  
    ?^7~|?v  
    走进VirtualLab Fusion QoW3*1o  
    :DZiDJ@  
    w8on3f;6n#  
    l%)XPb2$J  
     VirtualLab Fusion是一个灵活且可定制的建模工具平台,用于模拟复杂的光学设置,例如,将一组平面波耦合到光导中 U]P;X~$!  
     与软件optiSLang的互连提供了对灵敏度分析、多目标和多学科优化、鲁棒性评估、可靠性分析和稳健设计优化的高级工具的访问 4gZN~_AI<  
    _,'UP>Si  
    VirtualLab Fusion的工作流程 9#agI|d~  
     光栅结构的配置 (Hs frc  
        - 使用界面配置光栅结构[用例] EuAa  
    - 使用特殊介质配置光栅结构[用例] 7Jqp2\  
     耦合效率的评估 NT nn!k  
    - 用于光导耦合光栅评估的定制探测器[用例] gf!j|O;  
     光栅结构的优化 !F%dE!  
    - 使用optiSLang在VirtualLab Fusion中优化光栅 H#ihU3q  
    CUtk4;^y#  
    HgMDw/D(  
    走进optiSLang d,>l;l  
    >,y QG+  
    U9 If%0P  
    dzcPSbbpt  
     optiSLang提供了广泛的功能,可通过易于使用的图形用户界面执行稳健的设计优化 U-Iwda8v  
     它使您准备好迎接全方位的参数研究,以创新和加速您的虚拟光学系统开发 57#:GN$EL  
    ,5/gNg  
    VirtualLab Fusion技术 i7p3GBXh[  
    UOwj"#  
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    VirtualLab Fusion技术 ]02V,'x