为什么要在高真空条下镀膜? ynw(wSH=
答案 *0" ojfVn
1、真空状态下,膜料的熔点温度和蒸发温度要比在大气状态下低得多。对高熔点的氧化物膜料,在真空状态下其熔点要低得多。也就容易到蒸发温度而不需太高的能量。 \bT0\
(Js\
2、真空状态下,真空室中空气极少,膜料分子从蒸发源到达基片表面的路程中几乎不与残留在真空室中的气体分子碰撞,即分子自由程长。膜料容易沉积在基片上。 2&*#k
3、由于真空室中气体分子少,因而氧分子、硫分子等化学活泼分子也少,高温状态的膜料分子就不会与之发生化学变化,从而保证膜层的膜料纯度。 -6J <{1V
33<{1Y[Q6E
在镀膜之前为什么要预熔材料? LT$t%V0?.e
gd
* b0(
在镀膜之前要把材料预熔透彻,主要是为了材料进行放气,消除材料中其它成份,保持镀膜不产生飞溅和保持真空度稳定。 &S
xF"pYV
"y~*1kBu
镀膜过程中产生杂质的原因和对策? k~AtnI
答案 v76P?[
1.电子枪周围没有打扫干净用吸尘器、百洁布等清冼电子枪部件 MH)V=xU|)
2、坩锅没有清冼干净坩锅边缘用百洁布、酒精、纱布清冼干净 />E
ILPPb
3、镀膜时电子枪光斑不在中间而打到边缘镀膜时必须把电子枪光斑打到中间而不能打偏 Ba?1q%eG
4、预熔材料不透彻把膜料充分地预熔透彻 *bo| F%NAz
5、预熔膜料电流加得太快加电流要缓慢,不要加的太快 7yu-xnt3s
6、电子枪档板不干净每罩要更换电子枪档板,以及电子枪档板要清冼干净 $,:mq>]![{
7、膜料污染避免膜料相互污染,以及保存方法 }O+xs3Uv
8、膜料本身不纯更换其它品种膜料。