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    [分享]光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析 [复制链接]

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    离线gangzi0801
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-11-24
    在超大规模集成电路中,为了实现NA=135,波长193nm处分辨率达到 45nm的目标,需要对影响光刻照明均匀性的误差源进行详细分析最终确定公差范围。复眼透镜是使光束系统掩膜面上形成矩形均匀照明区域的关键元件。采用CODEV软件设计了复眼透镜对引起照明不均匀性的因素进行分析,结合复眼透镜组的设计方案和实际加工能力,给出X和Y向复眼曲率公差为±10%,后组曲率公差为±5%,前后组间隔公差为±50μm,位置精度偏心公差为±1μm,装配精度公差为±3μm。制定公差合理、可行,满足了浸没式光刻照明系统高均匀性、高能量利用率的要求。 l H@hV  
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    cyqdesign 光币 +5 - 2023-11-24
     
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    离线ioash
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    只看该作者 36楼 发表于: 03-22
    codev建模微镜阵列学习一下
    离线远辰
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    只看该作者 35楼 发表于: 03-19
    谢谢大佬分享
    离线王教主
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    只看该作者 34楼 发表于: 02-02
    学习一下,下来看看
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    只看该作者 33楼 发表于: 01-26
    谢谢分享。
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    只看该作者 32楼 发表于: 01-26
    这种公差分析,用用照明软件Lighttools仿真会更好一些吧
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    只看该作者 31楼 发表于: 01-26
    看一看
    离线lillman
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    只看该作者 30楼 发表于: 01-18
    这个没接触过,下来看看
    离线byron77
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    只看该作者 29楼 发表于: 01-15
    光刻知识,学习一下
    离线peanut
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    只看该作者 28楼 发表于: 01-15
    学习一下 jpGZ&L7i&