[分享]光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析 [复制链接]

在超大规模集成电路中，为了实现NA=135，波长193nm处分辨率达到 45nm的目标，需要对影响光刻照明均匀性的误差源进行详细分析最终确定公差范围。复眼透镜是使光束在系统掩膜面上形成矩形均匀照明区域的关键元件。采用CODEV软件设计了复眼透镜对引起照明不均匀性的因素进行分析，结合复眼透镜组的设计方案和实际加工能力，给出X和Y向复眼曲率公差为±10%，后组曲率公差为±5%，前后组间隔公差为±50μｍ，位置精度偏心公差为±1μｍ，装配精度公差为±3μｍ。制定公差合理、可行，满足了浸没式光刻照明系统高均匀性、高能量利用率的要求。 B=hJ*;:p  

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