"{j4?3f) 建模目的:如何将矩形
光栅界面和转变点列界面(Transition Point List Inerface)进行组合,以构建复杂
结构光栅,并进行近场分析和内部场分析
i4&"-ujrm 工具箱:光栅工具箱
%fo +Y+t 关键词:矩形光栅界面 转变点列界面 近场分析 内部场分析
4tof[n3us 组合光栅结构
参数:
图1:光栅参数示意图 >2,x#RQs
y2yW91B, 使用VirtualLab光栅工具箱进行建模
O}"VK YrL:!\p. 1) 操作如下图(1)(2):解决方案(Solutions)/光栅工具箱(Grating Toolbox)/二维光栅
仿真(2D Grating Simulations)/自定义光栅光路流程图(General Grating Light Path Diagram),生成光栅光路图, 如下图(3)
(1)
TE3A(N' (2)
>@rsh-Z (3) pMKnA.|
图2:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤1)示意图 >7p?^*&7;
SBgBZm}% 2) 双击

,进入光栅编辑窗口(Edit General Grating 2D)/结构与功能子窗口(Structure/Function),确定基板
材料和厚度,并选择堆栈界面。
6`+dP"@ 图3:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤2)示意图 S{zi8Oc6
n0:'h}^ 3) 进入堆栈界面,即堆栈编辑窗口(Edit),通过添加(Add)按钮依次添加平面(Plane Interface),矩形光栅界面(Rectarngular Grating Interface)以及转变点列界面(Transition Point List Interface)以构建矩形组合光栅。
NDWpV (1)
M6[&od 
(2) CMI%jyiX
(3)
图4:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤3)示意图 -uHD|
}
R6r'[-B2 4) 点击

,进入矩形光栅编辑窗口(Edit Rectangular Grating Interface),输入光栅一的结构参数,并将其位置横向移动(Lateral Shift)1 µm,如下图所示
pPu E-EDk 图5:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤4)示意图 yn)K1f^
mw-0n 5) 点击

,进入转变点列界面(Transition Point List Interface)编辑窗口(Edit Transition Point List Interface),输入光栅二和光栅三两种光栅结构参数:
q~48lxDU xlZ"F (1) 通过点击添加数据(Add Datum)增加转变点(transition points),并给该点对应的横向位置(x-Position)和高度(Height)赋值,以形成所需转变点序列。
@bSxT,2 8vOKm)[% (2) 按照图6(2)所示设置所有转变点,然后将插值方法(Interpolation Method)设置为常量区间(Constant Interval)。将横向区域上限(Upper Limit)设置为2 µm,并设置大小与形状(Size and Shape) 为2 µm x 2µm 长方形(Rectangular)。
NiQ`,Q$B LJt#c+]Li (3) 进入周期化标签(Periodization),选择使用周期化设置(Use Periodization),并将周期设置为2 µm x 2µm。可观察到z-方向,即高度方向最小值(Boundary Minimum)为-800 nm。
]v{f!r=} (1)
<,$(,RX N.vt5WP 
(2)
(3)
图6:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤5)示意图 /'ccFm2
@`^+XP K\ 6) 将平面与矩形光栅界面距离设置为0,矩形光栅界面(光栅一)与转变点列界面(光栅二和三)之间的距离设置为800 nm,并将堆栈周期(Stack Period)设置为2 µm,如下图所示:
;Kob]b 图7:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤6)示意图 s`B]+
d[9c6C:<q 7) 设置
光学界面后的介质类型(Subsequent Medium),点击

,进入材料库,分别将Cr和TiO2介质分别用于矩形光栅界面(光栅一)和转变点列光栅界面(光栅二和光栅三)之后,设置方法如下图。
lTBPq?4{ (1)
7O^ySy"l 
(2)
图8:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤7)示意图
;P3sDN xDD3Y{K 8) 在堆栈界面观察组合光栅的剖面图以及点击

观察其3D视图
F[BJhN*]a (1)组合光栅剖面图
3(0k!o0" 
(2)组合光栅3D视图
图9:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤8)示意图
.&:y+Oww~ 4) 使用光栅工具箱中的元件内部场分析器可以获得光栅内部场的分布。
UE3(L
^ 9) 传输子窗口(Propagation)/传输方法标签(Propagation Methods)中选择傅里叶模态法(Fourier Modal Method)作为元件传输方法(Component Propagation),光栅工具箱默认的传输方法是傅里叶模态法(FMM),对于特征尺寸远大于波长的光栅,可以选择薄元近似(TEA)。 `z=U-v'H)D rJ|Q%utYz 图10:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤9)示意图 ^1^k<
10) 高级设置标签(Advanced Settings),单击
,进行如图11(1)-(3)设置,并观察折射率分布如图(4):可以看出组合光栅的形状及折射率分布。 G0Q}
1
Vf9PHHH| (1)
e33 j&:O 
(2)
FR&4i" + 
(3)
0*^ J;QGE 
(4)
图11:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤10)示意图
@*P$4c 11) 进行近场分析: nk|j(D
EhL
8rR (1)
D/uGL
t~D( (2)透射场振幅分布 (3)反射场振幅分布
图12:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤11)示意图 (C>FM8$J
12) 双击
,进入光栅衍射效率分析器编辑窗口(Edit Grating Efficiency Analyzer),并做如下图设置。 #RT} -H
6;6a.iZ 图13:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤12)示意图
"Ah (EZAR
13) 点击
,进行光栅衍射效率分析,获取各级次的效率以及总的效率,如下图:(1)极坐标表示形式;(2)不同级次所对应的角度与衍射效率图;(3)总的反射、透射效率以及吸收率。 &'4{/Gz
a$H*C(wL Z
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6A1 (1)
03$-U0.;- 
(2)
nm5zX, 
(3)
图14:使用VirtualLab光栅工具箱进行建模步骤13)示意图 VrLU07"0n
14) 在光路流程图(Light Path Diagram)中添加元件内部场分析器(Field Inside Component Analyzer: FMM)进行内部场分析:参数设置如图15(1)(2),结果图为(3)(4) r!:W-Y%
booth}M (1)
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(2) G8b/eWtP
点击
,计算组合光栅内部Ex和Ez的振幅分布。 )[_A{#&