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rPm x 内容简介 k;Y5BB Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /x *3}oI 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 D2O~kNd 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 K(|}dl: f6p/5]=J26 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 7t3!)a|lI 目录 -nwypu Preface 1 mR)wX 6 内容简介 2 |uJ%5y# 目录 i ~V6D< 1 引言 1 _yT Ed"$
2 光学薄膜基础 2 |V(0GB 2.1 一般规则 2 w32y3~ 2.2 正交入射规则 3 J[kTlHMD 2.3 斜入射规则 6 0*v2y*2V 2.4 精确计算 7 7}mFL* 2.5 相干性 8 2`-Bs 2.6 参考文献 10 ;AG()NjOO: 3 Essential Macleod的快速预览 10 !5N.B|Nt 4 Essential Macleod的特点 32 \{YU wKK/A 4.1 容量和局限性 33 Uw:"n]G]D? 4.2 程序在哪里? 33 n&!-9:0 4.3 数据文件 35 G+m }MOQP7 4.4 设计规则 35 hqdDm 4.5 材料数据库和资料库 37 nr3==21Om4 4.5.1材料损失 38 ~>XxGjxe 4.5.1材料数据库和导入材料 39 [N'h%1]\ 4.5.2 材料库 41 O".=r} 4.5.3导出材料数据 43 qxj(p o 4.6 常用单位 43 *NQ/UXE 4.7 插值和外推法 46 2A!FDr~cdT 4.8 材料数据的平滑 50 8?C5L8) 4.9 更多光学常数模型 54 FGkVqZ Y2? 4.10 文档的一般编辑规则 55 4&iCht
= 4.11 撤销和重做 56 "gwSJ~:ds 4.12 设计文档 57 D/' dTrR 4.10.1 公式 58 IVmo5,&5( 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 d"Y{UE 4.10.3 沉积密度 59 6w7 7YTJ 4.10.4 平行和楔形介质 60 eV~goj 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 i@'dH3-kO
4.10.4 性能 61 t$ *0{w
E 4.10.5 保存设计和性能 64 T^q
0'#/ 4.10.6 默认设计 64 FiU#T.`9' 4.11 图表 64 Ir]\|t 4.11.1 合并曲线图 67 :gC#hmm^ 4.11.2 自适应绘制 68 :v 4]D4\o 4.11.3 动态绘图 68 4GM6)"#d 4.11.4 3D绘图 69 ?X;RLpEc|A 4.12 导入和导出 73 aQ~s`^D 4.12.1 剪贴板 73 nRY5xRvK 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 2T`!v 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 y?#
Loe 4.13 背景 77 i mM_H;-X 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 [S<";l8 4.15 生成Rugate 84 l;V173W=& 4.16 参考文献 91 |cY`x(?yP 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 NEF#
}s2= 5.1 Jobs 92 <-0]i_4sK 5.2 创建一个新Job(工作) 93 tg/H2p^Y 5.3 输入材料 94 ?fS9J 5.4 设计数据文件夹 95 .p$(ZH =~ 5.5 默认设计 95 mVmGg, 6 细化和合成 97 I?NyM 6.1 优化介绍 97 (iGTACoF 6.2 细化 (Refinement) 98 $ulOp;~A% 6.3 合成 (Synthesis) 100 y?!"6t7& 6.4 目标和评价函数 101 |'2d_vR 6.4.1 目标输入 102 hzC>~Ub5 6.4.2 目标 103 <7$1kGlA 6.4.3 特殊的评价函数 104 C.QO#b 6.5 层锁定和连接 104 M:V_/@W. 6.6 细化技术 104 F5#YOck&, 6.6.1 单纯形 105 zn(PI3+]! 6.6.1.1 单纯形参数 106 6zn5UW#q 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 2BobH_H 6.6.2.1 Optimac参数 108 tI{_y 6.6.3 模拟退火算法 109 bjS{( 6.6.3.1 模拟退火参数 109 LIdF 0 6.6.4 共轭梯度 111 3ANQaUC 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ,2)6s\]/b 6.6.5 拟牛顿法 112 ]N[ 5q=A5 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 cGD(.= 6.6.6 针合成 113 h7 I{
4 6.6.6.1 针合成参数 114 ;=UsAB] 6.6.7 差分进化 114 HorDNRyu 6.6.8非局部细化 115 kNL\m[W8$ 6.6.8.1非局部细化参数 115 d5l UGRg 6.7 我应该使用哪种技术? 116 39jG8zr=Z[ 6.7.1 细化 116 3BLq CZ 6.7.2 合成 117 *9i{,I@ 6.8 参考文献 117 #89!'W 7 导纳图及其他工具 118 \|ao`MMaD< 7.1 简介 118 KY N0 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 yOKI*.} 7.2.1 四分之一波长规则 119 &VcV$8k 7.2.2 导纳图 120 o`RKXfCq 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 6`-jPR 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 w`=\5Oa .G 7.5 斜入射导纳图 141 2Hv+W-6v 7.6 对称周期 141 yCX?!E;La 7.7 参考文献 142 8sCv]|cn 8 典型的镀膜实例 143 qjc4.,/ 8.1 单层抗反射薄膜 145 o8vug$=Z 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 t()c=8qF|u 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 xP,hTE 8.4 W-膜层 148 dq[xwRU1 8.5 V-膜层 149 Hq 188< 8.6 V-膜层高折射基底 150 "g#i'"qnW 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 < |