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时间地点 \/ rK0|2A 主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司 HOWm""IkB 协办单位：苏州黉论教育咨询有限公司 s%t PGjMq 授课时间：随时随地学习 U) tqo _ 授课地点：黉论教育网校 s|7(VUPL 课程费用：4500 元（包含课程材料费、开票税金） Y{].%xM5 授课讲师：讯技光电高级工程师 rlj @ ' 学员要求：不需要任何软件基础 j@4
yRl ^ UQGOC P_ 课程简介 2ckAJcpEb/ 当收到需求者的光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用 BMw_F)hTO 所需的基板，镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如 44H#8kV 高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是 8&1 5k A 截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需 */=5m] 要考虑商业软件或自行设计电脑软件来参与合成或优化，设计好之后，即刻进行 K".\ QF,: 制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到， V=<OV]0 则要修改设计，重新分析直到合格为止。 =bJj;bc'5 课程涵盖 Macleod 软件所有模块、光学薄膜膜系设计与优化方法。培训期间 i^ c 针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员 ]~my<3j}or 快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜 hFORs.L&G 领域的具体应用。 + y!B`'J  \Mk;Y e:9CD- 课程大纲： Vp = 1. 软件基础入门 <8U qV.& 软件简介 D- )jmz>R 软件计算方法简介
:e- &, K 程序基本框架和全局参数设置 .@0 i,7S 程序中使用的各种术语的定义 :t
&ib}v 2. 图表 d*%-r2 K 绘图和制表来表示性能3D 绘图-用两个变量绘图表示性能 U#oe8( ?# 交互式绘图的使用 #q{i<E 07 3. 材料管理 P8DT2|Z6f] 材料的获取 2ql7*g?Uq@ 材料的导入与导出 neQ2k=ao 材料数据平滑与插值 PP+{zy9Sb 用包络法推导介质膜的光学常数 :3qA7D } 利用光谱仪的测量值计算基底光学常数 3L24|-GxH 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) gi::?ET/. 4. 薄膜设计与优化简介 %N\p fZ2\ 优化与合成功能说明 m?;aTSa 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate /1X0h Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local) ".&x`C 膜层锁定和链接 ygm4 A j> 减反膜优化 te ?R(& 高反膜优化 %G9: M;|' 滤光片优化 q2VQS1R`8 斜入射光学薄膜 Hu$]V*rAG 5. 反演工程 9moenkL 镀膜过程中两种主要的误差（系统误差和随机误差） `Q2
`": 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品 {p -b,J9~a 6. 分析工具 a jy.K'B* 颜色模型和分析工具 uMm /$#E 公差工具和良品率预估 @";z?xj 灵敏度分析 pm< zw -  A8JEig 3Ix 7. 附加模块-Vstack ^FSUK 非平行平面镀膜 x Z2 }1D 棱镜镀膜透反吞吐量评估8. 附加模块-DWDM J~z;sTR 光通信用窄带滤光片模拟 ]a|3"DP5 9. 附加模块-Runsheet&Simulator l[]K5?AS>- 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 mq$mB1$3u 镀膜沉积过程噪声信号模拟 3 wV N:g7 J-lQPMI, 10. 附加模块-Function O`e0r%SJ 如何在 Function 中编写脚本 qX{m7 案例：自定义画图 ua(y! Im 案例：太阳能抗反射薄膜分析 aK'`yuN 案例：膜厚变化颜色变化 y4`<$gL V .; , 1%
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