福利 | 光学社区人才培养计划第二期将对武汉墨光客户开放

发布:小火龙果 2023-03-13 14:41 阅读:693
好消息!好消息!为了让大家深入的学习光学成像设计知识,光学社区人才培养计划第二期将在武汉举办!本次培训对武汉墨光的客户开放,凡是参加过武汉墨光的收费培训、购买过软件的客户,均可来参加本次活动。本次培训时长为5天。下面是本次培训的详细介绍及课程安排: P~M<OUg  
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课程时间2023年3月29日-4月2日课程地点武汉市光谷时代广场,华科地铁站附近(需自带电脑)武汉墨光客户报名方式:扫描下方二维码,或者点击阅读原文。报名时请确保信息填写完整(包含姓名、电话、邮箱及所在工作单位),会议详细地址将在会议召开前一周左右通过电话/邮件在的方式告知。 DE!c+s_g4  
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报名截止:2023年 3月 28日活动费用:光学社区用户收取3贡献值(墨光客户可免除此项),另外每个人300元(用于3位老师来回武汉的交通和住宿费用,费用会公开,未使用完费用会平均退给大家)。 PgdHH:v)  
第一天:成像设计基础 1fqJtP6  
1.概述: cjwc:3 CM  
1.1成像光学设计是怎么样的技术;1.2成像光学设计需要什么样的能力; D|D) 782  
2.像差 0[.T`tpN'  
3.几何光学  P@FE3g  
4.设计软件: nd,2EX<bE  
4.1系统设置(孔径、视场、波长); D+"+m%^>C  
4.2初始结构(如何寻找、建立); OQiyAyX  
4.3函数编写(常用函数); ):7mK03J  
4.4优化与分析; x&*2R#Ai  
4.5公差分析; x};sti R  
4.6热分析; h?P- :E  
4.7工艺分析(玻璃材料、形状尺寸) W]I+Rlv)U  
5.设计实例; ndHUQ$/(  
6.后续学习方向与建议 {'z(  
q!AcM d\  
JS^!XB' !  
第二天:Zemax优化及案例 OBL2W\{  
内容概述1. zemax优化思路和技巧介绍 HpIW H*  
2. 3个优化实例 ~_a$5Y  
1.zemax优化技巧和思路
MJ<jF(_=  
1.1.由小及大调整入射角或是入瞳直径1.2.优化过程要保证畸变不能太大,过程中需要控制1.3.替换玻璃与玻璃介绍1.4.MTF优化技巧 'a G`qPB  
1.3.替换玻璃与玻璃介绍
●玻璃替换●2019年生产频次和价格系数●非球面使用的玻璃,D开头的低熔点玻璃●球面使用的玻璃,H开头的玻璃●双胶合透镜与三胶合透镜 kK/( [!  
 }~Ir &   
1.4.MTF优化技巧 }6!m Q  
(1)将优化函数选择为对比度(如果MTF在150线对处的模值为0.3,频率通常设置为75附近)或是波前(PV值),并将权重缩放设置一个非常大的值。 4(&sw<k  
(2)将厚度全部设置为非变量。 B{!*OC{l  
(3)将畸变(DIMX操作数)设置为一个较小值,比如0.1或是0.2, 这个操作数也取一个比较大的权重。 >E9 k5  
(4)开始优化,对于大部分情况,MTF都能达到一个比较好的结果,但还是不会特别理想,然后将厚度全部设置为变量,再进行优化。优化结果会更好。通常这种情况下,MTF都能达到衍射极限,但是镜片厚度和空气间隔会出现负数的情况,然后将比较小的值先优化到正数。此处注意一个问题, 比如有5个值出现负数,我们一个一个的优化为正数,不要同时优化为正数,同时优化为正数的时候,MTF会偏离衍射极限的位置,一个一个的优化,MTF通常会保持衍射极限位置不动。 e[Jh7r>'  
(5)如果以上操作达不到目的的话,最可能的原因是镜片材料的问题,解决这个问题的方法是将所有镜片材料的求解类型设置为替代,设置完成后,材料后面会出现S,进行锤行优化一晚上,通常都会解决问题,因为此时软件给的材料配置比我们预先设置的更加合理。 Xx1eSX  
2.优化实例
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+%R{j|8#  
9QHV%%  
第三天:光学加工工艺的学习 s9,Z}]Th  
(魏向阳老师,从事冷加工20年)1.详细讲解:光学冷加工的具体流程,问题:1.1球面的一般形状 /kAbGjp0  
1.2 术语 x9\]C' *sO  
1.3 参考流程 =F09@C,  
1.4 超声波洗净 _b9>ZF~  
1.5 芯取(磨边) ;s?,QvE{r#  
1.6 镀膜 YI?tmqzt  
1.7 粘合(胶合,接合) $S/EINc  
1.8 涂墨 1*?L>@Wdy  
1.9 出货检查(OQC) ),XDY_9K  
1.10 球面镜片加工难度评估 BHt9$$Z|  
2.加工现场视频拍摄,每个环节可能出现的常见问题; `JcWH_[  
3.玻璃材料、胶合、检验、胶水类型 0t%`jY~%  
4.高低温问题; xwojjiV  
5.出图规范
xu.TS  
`t>:i!s/  
第四天:投影光机设计 L:7 kp<E  
1.DLP照明1.1光学扩展量 WHcw5_3#  
1.2积分柱与复眼 UN|S!&C$  
均匀化原理/空间尺寸/光学扩展量损失 S]?I7_  
1.3TIR与RTIR ('+C $  
TIR的像差/材质选择/使用场合 cH6J:0>W  
2.镜头2.1渐晕 eC`G0.op  
两种渐晕方式 H3+P;2 {  
2.2像差校正的最小单元 vF9fXY=  
初级像差的形成/初级像差的重新分类/正负光焦度组合 p8MN>pLP%  
2.3镜头复杂化的两条主线 DDe`Lb%%  
3.镜头优化
0~BZh%s< (  
3.1材质合理性的判断 nw0Tg= P  
3.2架构合理性的判断 O@a7MzJ  
f1|&umJ$  
7n7UL0Oc1  
第五天:红外镜头设计 2E0oLl[  
1.中波制冷光学系统结构构型分析特点:光阑在焦平面前面,需要二次成像。简单的,由物镜+中继镜组组成;复杂一点的,带摆镜的系统,由物镜+目镜组成一个望远系统,再接一个独立的镜头 EZ[e  a<  
2.物镜设计; ''}2JJU{  
3.中继镜组设计 ,8o Y(h  
4.拼接(光瞳匹配) "] ]aF1  
5.带摆镜的中波制冷光学系统 o,'Fz?[T%  
2FQTu*p&B  
;0-R"c)-  
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