UID:323712
jzdxzw:第一层不用二氧化硅试试呢 5x=tOR/h (2023-03-16 09:05) DX4 95<6*
UID:321637
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xzaxd:你用的是什么设备? (2023-03-17 15:57) 6Y\9h)1Jo
ouyuu:镀膜前延长离子源清洗的时间,增加离子源清洗的能量 Ob0=ZW`+& 使用卤素灯烘烤加热到80度左右 &~||<0m PC第一层用氧化铝 (2023-03-18 23:35) X] Tb4