UID:323712
jzdxzw:第一层不用二氧化硅试试呢 ?Zb3M (2023-03-16 09:05) uQKo2B0
UID:321637
UID:295883
xzaxd:你用的是什么设备? (2023-03-17 15:57) (ak&>pk;
ouyuu:镀膜前延长离子源清洗的时间,增加离子源清洗的能量 j0 w@ \gO< 使用卤素灯烘烤加热到80度左右 }wI+eMr PC第一层用氧化铝 (2023-03-18 23:35) v yt|x5