UID:323712
jzdxzw:第一层不用二氧化硅试试呢 xMh&C{q (2023-03-16 09:05) t|DYz#]
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xzaxd:你用的是什么设备? (2023-03-17 15:57) `uHpj`EU
ouyuu:镀膜前延长离子源清洗的时间,增加离子源清洗的能量 \'Kj.EO{?$ 使用卤素灯烘烤加热到80度左右 yuDd% 1k PC第一层用氧化铝 (2023-03-18 23:35) 9mphj)`d;#