UID:323712
jzdxzw:第一层不用二氧化硅试试呢 &hi][Pt (2023-03-16 09:05) RU=g|TL
UID:321637
UID:295883
xzaxd:你用的是什么设备? (2023-03-17 15:57) {Z[kvXf"mZ
ouyuu:镀膜前延长离子源清洗的时间,增加离子源清洗的能量 Ga^k1TQq 使用卤素灯烘烤加热到80度左右 O<w7PS PC第一层用氧化铝 (2023-03-18 23:35) *|:]("i