UID:323712
jzdxzw:第一层不用二氧化硅试试呢 -V2f.QE% (2023-03-16 09:05) E\}A<r
UID:321637
UID:295883
xzaxd:你用的是什么设备? (2023-03-17 15:57) T*8S7l
ouyuu:镀膜前延长离子源清洗的时间,增加离子源清洗的能量 ]e7?l/N[ 使用卤素灯烘烤加热到80度左右 /K1cP>oE PC第一层用氧化铝 (2023-03-18 23:35) -/Wf iE