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ouyuu:镀膜前延长离子源清洗的时间,增加离子源清洗的能量 jX t5.9 t 使用卤素灯烘烤加热到80度左右 ?b(DDQMf PC第一层用氧化铝 (2023-03-18 23:35) I6S>*V
xzaxd:你用的是什么设备? (2023-03-17 15:57) ,awkL :
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jzdxzw:第一层不用二氧化硅试试呢 X"v)9p (2023-03-16 09:05) E <h9o>h
sosjinyan:现有工艺什么也不变,镀完金属铝。 测反射率和牢固度。 -n`2>L1 (2023-03-15 15:46) iLJBiZ+
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