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ouyuu:镀膜前延长离子源清洗的时间,增加离子源清洗的能量 H=.K 使用卤素灯烘烤加热到80度左右 am:.NG+ PC第一层用氧化铝 (2023-03-18 23:35) ~b8a^6:R"
xzaxd:你用的是什么设备? (2023-03-17 15:57) (j=DD6fC
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jzdxzw:第一层不用二氧化硅试试呢 <&KLo>B^ (2023-03-16 09:05) 5FZ47m ~{Z
sosjinyan:现有工艺什么也不变,镀完金属铝。 测反射率和牢固度。 #;wkr)) (2023-03-15 15:46) - 3C* P
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