"$_ypgRrSR 利用VirtualLab中的面板型
光源,可以如现实一样对像素化显示进行建模。所述面板型光源可以由给定的像素个数和像素图形来定义,每个像素都发射出可调发散角的球面波。结合ParameterRun,可以对所有像素进行扫描,可针对特定应用灵活选择扫描方式,例如,用于分析具有像素化图像生成单元的
成像系统。
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l:+1j{ d7
:>=,sLfJ O?_'6T 1. 基本参数 [}D)73h` bc-"If Z& KH-.Z0
2U 面板型光源
模拟确定的像素数目,每个像素用一个球形波表示,作为基本模式。
:L,]<n 所有模式具有相同的
孔径形状,并可在基本参数(Basic Parameters)选项卡中配置。
%{Gqhb=u\ 此外,还可以设置相对或绝对边缘宽度。
^*W3{eyi(L Vufw:}i+^
!?96P|G 8eNGPuoL) 2. 特定参数-强度 Kmtr.]Nj =g ]C9'I3 B(~D*H2T[ 特定参数(Specific Parameters)选项卡可以控制光源的强度和像素设置。 强度分布的设置可以根据:
I`|>'$E[r - 通过指定彩色域集或通过导入图像
文件来指定所需的变化。在这种情况下,
波长从输入分布中选择;- 或者一个波长的所有像素的常数。在这种情况下,像素的数量可以分别沿x方向和y方向设置。
H={,zZ11{ U1Oq"Ij~
9iUw7-) I('l)^m% 3. 特定参数-像素设置 Oe?nX> fN9hBC@ <]<50 特定参数(Specific Parameters)选项卡可以控制光源的强度和像素设置。
~vgW:]i 像素间距(Pixel Pitch)可分别沿x方向和y方向设置。
|67UN U 另外,可以配置每个像素的孔径角度(Aperture Angle)。
x/ez=yd*l
,AJd2i x D4G{= Y}G 4. 光线选择 5v]xk?Eb +CACs7tV 在Ray Selection选项卡中,对于每个模式,都可以指定所需的选择方法和射线的数量。
XH/|jE.9^| *m;L.r`5[
=J:~AD# 5. 偏振设置 4P.ry|2 ,PB?pp8C} ;J4_8N- 偏振设置(Polarization Settings)选项卡为所有像素提供偏振选项。
2iUF%> 偏振状态可以为:
|1neCP@ng −线偏振;
(wTg aV1 −圆偏振;
wL{Qni3A −椭圆偏振;
P?I"y,_ p −一般通过琼斯矩阵输入。
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[=iq4F'7
zd}"8 6. 模式选择 ^t| %!r
G I;No++N0 ;gF"o5/Q 在模式选择(Mode Selection)选项卡中,可以选择不同的
光谱成分和像素。
aW"BN 5eM> 波长可以单独或全部选择。
g3y44GCV 像素可以在指定的列或行中选择,也可以作为单个像素选择。
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(|WqOwmoUt 7. 参数运行-扫描每个单个像素 ,Rf<6 /A u+ -}| J^u{7K, 在模式选择选项卡中,选中“像素”。
RW3&]l= 启动参数运行并切换到扫描模式。然后扫描选定的列和行索引。
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