线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： 0<@KG8@hI;  
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培训大纲： B{#I:Rs9  
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杂散光术语 T2W eE@o  
辐射度学基础 j0aXyLNX  
杂散光成因 m,w A:o$'  
杂散光影响、杂散光控制 {9pZ)tB  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 wv1iSfW  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 9T9!kb  
散光特性、散射模型 Lv7(st%`  
消光漆/表面处理 ,PW'#U:  
光学表面污染 >Q;l(fdj  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 2- h{N  
衍射杂散光、 gPO}d  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析  'KL0@l  
小孔衍射的杂散光分析 JR21>;l#2  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 @n /nH?L  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 eJ-xsH*8  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 m?}6)\ob  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 M"Hf :9Rk  
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培训书籍 1(R}tRR7R  

图片:ASAP640.png

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报名培训即可免费赠送此书 ;[YG@-"XZ  
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培训详情： NwvC[4  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， \?-<4Bc@  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） JFmC\  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） lfgq=8d  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 .2t4tb(SUw  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 GL}]y -f  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 +TL%-On  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） ~G&dqw/.-U  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 u c)eil  

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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。