线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： n\'4  
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培训大纲： U&OJXJdj  
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杂散光术语 . iI  
辐射度学基础 ]^7@}Ce_  
杂散光成因 s`8= 3]w  
杂散光影响、杂散光控制 _Y4` xv0/  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 pa3{8x{9m  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 fOGFq1
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散光特性、散射模型 itP,\k7>d  
消光漆/表面处理 lNh70G8^p  
光学表面污染  'KL0@l  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 JR21>;l#2  
衍射杂散光、 @n /nH?L  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析
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小孔衍射的杂散光分析 -3*]G^y2  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 #q$HQ&k  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 6;d*r$0Fc  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 lgy<?LI\  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 `HSKQ52  
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培训书籍 fU}ub2_in  
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报名培训即可免费赠送此书 +@f26O7$*  
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培训详情： o:'MpKm  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， V2EUW!gn 2  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） z&\a:fJ&  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） `
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为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 #:_Kws>+  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 ebhXak[w  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 qInR1r<  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） nR~@#P\  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 <xm7qmqI  
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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。