线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： R=NK3iGTf  
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培训大纲： Ov:U3P?%  
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杂散光术语 eZpi+BRS6  
辐射度学基础 #B$_ily)  
杂散光成因  #s=\  
杂散光影响、杂散光控制 @MH/efW.  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 oXwcil  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 kzKQ5i $G  
散光特性、散射模型 gU@.IOg  
消光漆/表面处理 O,&p"K&Z  
光学表面污染 <UwA5X`0e.  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 rt! lc-g%/  
衍射杂散光、 gepYV}  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 r)w]~)8  
小孔衍射的杂散光分析 Ag]Hk%  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 TY#pj  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 P^/e!%UgC  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 h
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散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 Ga"<qmLMc  
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培训书籍 b\"2O4K,)  
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报名培训即可免费赠送此书 O;;vz+ j  
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培训详情： 0 KWi<G1  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， '$CJZ`nt  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） J@9E20$  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） %lK]m`(  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 (B
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 HuL9' M
 
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 dLu3C-.(  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） "IsDL^)A9  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 cW, 6MAQo  
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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。