在增强现实和混合现实应用 (AR & MR) 领域的光波导
光学器件设计过程中,横向均匀性(每个
视场模式)和整体效率是两个最重要的评价函数。 为了在光波导
系统中获得适当的均匀性和效率值,有必要允许
光栅参数的变化,特别是在扩展器和/或输出耦合区域中。 为此,
VirtualLab Fusion 能够在光栅区域中引入平滑变化的光栅参数,并提供必要的工具来根据定义的评价函数运行
优化。 此用例展示了如何使用连续变化的填充因子值优化光波导,以获得足够的均匀性。
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^y0C5Bl; ?7MwTi8{F 任务描述 ttFY
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`k]!6osZo |W*@}D 光波导组件 |F@xwfgb
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使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的光波导系统。 此外,这些区域可以配备理想化或真实的光栅
结构,以充当输入耦合器、输出耦合器或出瞳扩展器。 更多信息请见:
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N&^xq_ 9& wK'! xH^ n<<=sj$\! (e>Rot0 光栅区域 0w(T^GhZ
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-9>LvLU g(1B W#$ 对于输入耦合器、输出耦合器和眼瞳扩展器 (EPE),使用了真实光栅。 他们的瑞利矩阵和相应的效率是用 FMM (RCWA) 严格计算的。 您可以在以下位置找到有关如何设置的更多信息:
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^@`e %7 v@n+Q R'I_xjC A,-V$[;~D 总结-组件 $HBT%g@UN
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xd|~+4 )?B~64N,+ 带有附加指南的一般工作流程 B3dA%\' o)#q9Vk%b 1. 基本光学光波导设置的配置(不属于此用例的一部分)
& &" 'dL FL`1yD^2 2. 足迹和光栅分析工具的应用,包括生成满足参数调制所有要求的光学设置
w3<"g&n| :'y{dbKp" 3. 光栅参数所需调制的定义
k%]DT.cE &{zwM |Q@? 4. 选择变量并定义评价函数以优化调制光栅参数。
PW*;S p NFY|^*bll 起点是一个现有的、可执行的光波导系统,其中已经包括基本几何结构(所需距离和定位光栅区域)以及光栅规格(方向、周期、级次)。这个例子取自:
w53z*l>ek sq~+1(X 4@v1jJj Jh$"f r3 足迹和光栅分析工具用于指定光栅参数变化的所需范围,并针对特定条件(
波长和方向)预先计算相应的瑞利系数。下一步,生成光学设置,其中可以定义平滑参数变化:
Any Zi' Dd0Qp-:2 xvR?~ 注意:
&nqdl+|G* 光栅调制是针对各个光栅区域定义的。
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08 足迹和光栅分析 )X~Pr?52?
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$ZI~ 8rI~ (Ffb&GL 在足迹和光栅分析工具的帮助下,光栅特性(复值)被预先计算并存储在查找表中,用于选定参数的指定范围(例如填充因子)。 根据可用的效率调制范围选择填充因子的初始范围。 更多信息可参见:
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