切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 先进光刻机曝光系统光学设计 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 1580阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7377
    光币
    31026
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-04-25
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 p&(0e,`z/  
    7=P)`@  
    *k{Llq  
    场景 OrkcY39"~a  
    WLUgiW(0$  
     SZWNN#w60?  
    ^E70$yB ^  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 =XfvPBA  
    {7:1F)Pj  
    系统构建块     e>MtDJ5  
    JHxcHh  
     TGJz[Ny  
    #{6VdWZ  
    组件求解器 /TMVPnvz.  
    | .jWz.c  
    n {?Du  
    L4po1  
    (JbRhcg  
    ,RPb <3 B  
    系统构建块 x1@,k=qrd  
    b `P6Ox3  
     f7&ni#^Ztj  
    RuHDAJ"&a  
    总结 MT{1/A;`)  
    awzlLI<2p  
    ,a5q62)q  
    >!fTWdD^  
    几何光学仿真 ;~F* 2)  
    通过光线追迹 Xe4   
     7J9<B5U  
    结果：光线追迹 ui?@:=  
    a!o%x  
     !!.@F;]W  
    7{r7  
    快速物理光学仿真  ]! ZZRe  
    通过场追迹 g0 Q,]\~  
     (cVIjo+::  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 )a^&7  
    / B!j`UK  
     Ox)<"8M  
    M&iXdw&  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 *$cx7yJ  
    Ea4zC|;  
     @kSfF[4H  
    X}GX6qAdt  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 zeGWM,!  
    3ko h!q+  
    W2<'b05  
    3=wcA/"!  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 )7NK+k  
    V'b4wO1RV  
     m2m ;|rr  
    hGKQK ^bn  
    总结 %Ja0:e  
     c{kpg N  
    uBG!R#T  
    jct=Nee|  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表