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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-04-25
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 N5ZO pRH{  
    }1~9i'o%Z  
    q5-i=lw  
    场景 "`cPV){]  
    3o/f, }_  
     Kg"eS`-  
    un -h%-e |  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ID! S}D  
    #\n* Qg4p  
    系统构建块     D1v0`od'  
    J5HK1  
     L?N-uocT  
    8F`8=L NO  
    组件求解器 `BG>%#  
    <OKc?[  
    rxyeix  
    g<M!]0OK  
    svl!"tMXl  
    xS5 -m6/  
    系统构建块 j|K;Yi  
    3o?eUwI}  
     0H^*VUyW/  
    m*N8!1Ot  
    总结 PlLt^q.z[  
    J` GL_@$q  
    eL(<p]  
    K/f-9hE F  
    几何光学仿真 q{f\_2[  
    通过光线追迹 F`x_W;\  
     V@-Q&K#  
    结果：光线追迹 KA?%1s(kJ  
    U.P1KRY|=  
     ;R#RdUFH  
    =mZYBm,IQ  
    快速物理光学仿真 {j]cL !Od  
    通过场追迹 BSg T 6K  
     jK*d  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 -aok]w m  
    T@Izf X7  
     *PL&CDu=)  
    4* >j:1  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /NCN wAj7  
    _LC*_LT_  
     Hv,ll1@h  
    KRT&]2  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 5o>`7(t`  
    la-:"gKC  
    W&|?8%"l]  
    wLqj<ot  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 S qb>a j  
    n9={D  
     w->Y92q]  
    3I~.'>Pd  
    总结 jmaw-Rx  
    vCJa%}  
    @!! u>1  
    K2xHXziQ  
     
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