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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-04-25
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 uI lm!*0  
    kn9ul3c  
    &![3{G"+>l  
    场景 /zV&ebN]  
    &&SA/;F  
    {B|)!_M#  
    3}hJ`xQ  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 hc#Sy:T>  
    J;8M. _  
    系统构建块
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    9eR4?^(3!  
    lFJDdf2:$C  
    |YEq<wbQ  
    组件求解器 wjEyU:  
    bSJ@ 5qS  
    v_G1YC7TU  
    |k,M$@5s  
    8=kIN-l_  
    9:9gam  
    系统构建块 J> Z.2  
    h$`zuz  
    2J;_9 g&M  
    1|bg;X9+  
    总结 v=8sj{g3,3  
    ~$PY6s  
    Rq`d I~5!b  
    !a9`]c  
    几何光学仿真 Te d1Ky2O  
    通过光线追迹 ^]n:/kZ5"[  
    u7(<YSOs  
    结果:光线追迹 CNMcQP  
    y\?NB:=%  
    l~(A(1  
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    快速物理光学仿真 |&u4Q /0  
    通过场追迹 @h=r;N#/`P  
    ,azBk`$iQr  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 vCX 54  
    5.M82rR; ~  
    yt+d f0l  
    jCp^CNbA  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 BG/Q7s-?K  
    .(g"(fgF  
    >S}^0vNZX  
    IoKN.#;^  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 3Z_\.Z1R@  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 qw<~v?{|C  
    wGLSei-s  
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    总结 wNm1H[{  
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