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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-04-25
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 6x(b/`VW  
    Q+K]:c  
    uGXvP(Pg'  
    场景 {@7UfJh>  
    "gI-S[  
    :/=P6b;  
    [7DU0Xg7  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 M^ WoV }'  
    Th%w-19,8  
    系统构建块
    XU}i<5  
    wjX0r7^@  
    ._x"b5C  
    xP1D 9   
    组件求解器 otjT ?R2g'  
    "N%W5[C{  
    R6;229e  
    <LBCu;  
    gf9,/m  
    |Zn,|-iW  
    系统构建块 UVi9}zr  
    r\b$/:y<e  
    /P3Pv"r|8]  
    b9.7j!W  
    总结 ]nIVP   
    olo9YrHn  
    su\Lxv  
    O[1Q#  
    几何光学仿真 O>X!78]#K  
    通过光线追迹 tJ d/u QJ  
    +BI%. A`2  
    结果:光线追迹 96F+I!qC  
    yP@#1KLa+  
    }FV_jJ  
    ?5d[BV   
    快速物理光学仿真 :]\-GJV5  
    通过场追迹 9~f RYA*  
    9J49s1  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 **9[e[(X  
    1?p:66WmR  
    $Ovq}Rexc  
    W7V#G(cpU  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 R^ I4_ZA  
    I%{D5.du  
    IU}g[O Cu  
    $I4J Kh  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 k lr1"q7  
    :VRQd}$Pi  
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    v>Kv!OY:c  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Q?m= a0g  
    ]ao%9:P;  
    +{ e2TY  
    Y#-pK)EeU  
    总结 jA%R8hdr_  
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    |2X+( F Ed  
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