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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-04-25
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 X/_89<&  
    -ykD/  
    M.HMn N#  
    场景 RT(ejkLZm  
    m8V}E& 6  
     qLPuKIF  
    pqTaN=R8  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 eM@xs<BR  
    gT(8.<h8  
    系统构建块     {.?pl]Zl6  
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     ,pY:kQ  
    kE:{#>[Uz  
    组件求解器 B}"V.Msv/  
    wD:2sri  
    4bcd=a;  
    ^]D+H9Tl  
    Bg] %  
    ;E ,i  
    系统构建块 ^ FM  
    Y^nm{;G+  
     ~9"c64 q  
    Cg|\UKfy$  
    总结 S>)[n]f  
    +&dkJ 4g[  
    UZs'H"K  
    pSI8"GwQ  
    几何光学仿真 ?bpV dm!  
    通过光线追迹 Wffz&pR8  
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    结果：光线追迹 wFMw&=j  
    ~4|Trz2T  
     #G_'5{V  
    9 r&JsCc  
    快速物理光学仿真 0yvp>{;p  
    通过场追迹 AF8:bk,R  
     .lq83; k  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 S;y4Z:!  
    &YcOmI/MM  
     Ndmw/ae  
    c-v-U O%  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 y=.bn!u}z  
    u:f.;?  
     $7ix(WL<%  
    }'faf{W  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 nt+OaXe5D  
    i(OeE"YA  
    z{FFTb^B  
    V#b=mp  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 *G7cF  
    1D3 8T  
     N|Ag8/2A  
    qE|syA9  
    总结 ^8A [ ^cgq  
    aL`wz !  
    h5pfmN\-5  
    @g4o8nH}  
     
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