切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 1826阅读
    • 0回复

    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7184
    光币
    30061
    光券
    0
    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2022-04-02
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： 1qhSN#s{_  
    VevDW }4q*  
     %^bN^Sq -  
    >{#QS"J#  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 }Pj;9ivz  
     "^5%g%  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 ]gmkajCzD  
     C^ Oy.s  
    相位分布如下图所示： R9InUX"k  
    5Pd^Sew  
     lNB<_SO  
    |%fM*F^7/  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： DTC OhUIV  
    ^qV6 khg  
     9^^:Y3j  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表