有很多的过程可以被称之为反演工程,但在Essential Macleod中,该术语的意思是用来识别理想设计的和实际生产尝试之间的差异。该功能大致可以概括为“出了什么问题”。这一过程类似于优化,在优化过程中,将初始设计进行优化,以满足一组优化目标。优化的目标是测量出来的、有问题的膜层性能,但有的时候会有很复杂的情况。在正常的优化中,经常会有多个解决方案,但是,由于我们通常会从中选择一个合适的设计,所以多个解决方案很少会带来麻烦。在反演工程中,只有一个正确答案,多个解决方案可能是灾难性的,那么怎么才能知道我们是否得到了正确的答案?这一点没有完全严格的测试方法,因此我们只能利用所掌握的关于镀膜的所有知识来评估结果的合理性。我们还利用我们的知识和经验以及各种不同的约束来指导过程。同时,作为目标的测量结果应尽可能精确,这一点至关重要。因此,尽管反演工程本质上是一个优化器,但它的结构与任何优化工具都完全不同。 HqM>K*XKU ~9#x/EG/ 我们可以看一个在400nm至700nm区域NBK7玻璃上镀减反射膜层反演工程中的应用。这是使用四层SiO2和Ta2O5,我们在每个Ta2O5层中引入误差,在第四层中,靠近基板厚度+10%,在较厚的第二层中厚度-10%。正确设计和错误设计的反射率如图1所示,其中考虑了基板背面的影响。 &?+ vHE}
;/tZsE{ u=j|']hp#& 图1.橙色曲线表示无误差四层设计的性能,黑色曲线表示有误差的性能。这两条曲线都包括基板后表面的影响。
]LGp3)T- 我们要做的第一件事就是通过File-New子菜单设置中创建新的反演工程。该工具立即要求导入正确的设计,图2,Next,图3,是我们需要的基板,默认是从设计中读取的。如果在后表面变黑或磨平的情况下测量性能为反射率,则应使用Wedge属性。最后,我们需要导入测量性能。图4显示了这个阶段工具的外观。 C\.mv |aW~ p1}Y|m! 图2.反演工程工具的对话框,其中应输入无错误设计的路径。 OPm?kr
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wKV!D 图3.反演工程中的第二个和第三个对话框,我们在其中输入基板细节,然后输入测量的性能。性能可以是反射率、透射率或椭圆参数。
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