以史为鉴,中国EDA产业怎么做?
[color=rgba(0, 0, 0, 0.3)]失效分析实验室 半导体工程师 [color=rgba(0, 0, 0, 0.3)]2022-01-10 05:08 以史为鉴,中国EDA产业怎么做? 与芯片设计业互为促进 随着摩尔定律的持续演进,集成电路的复杂程度指数级上升,现在集成度最高的芯片已经集成了数万亿个晶体管,未来芯片的集成度将会更高。依靠人工绘图已经不可能完成这样的设计任务,利用计算机辅助手段解决问题已是必然选择。而伴随集成电路60多年的发展历程,EDA产业也历经了从计算机辅助设计(CAD)发展进化到电子系统设计自动化(EDA)的演变,越来越深入地嵌入到集成电路产业当中,扮演着芯片破局支点的重要角色。 芯片作为现代电子产品的核心部件,一直充当着“大脑”的位置,技术含量高度密集,开发难度也是水涨船高。“设计一款芯片开发者首先要明确需求,定义诸如指令集、功能、输入输出管脚、性能与功耗等关键信息,再将电路划分成多个模块,清晰地描述出对每个模块的要求。然后再由‘前端’开发者根据每个模块功能设计出电路,运用计算机语言建立模型并验证其功能准确无误。‘后端’开发者则要根据电路设计出‘版图’,将数以亿计的电路按其连接关系,有规律地翻印到一个硅片上。”这是一位设计工程师对记者介绍芯片开发时的描述。如此复杂的设计,不能有任何缺陷,否则是无法修补的,必须从头再来。如果重新设计加工,一般至少需要一年时间,再投入上千万美元的经费,有时候甚至需要上亿美元。 2018-2023年中国EDA/IP市场规模及预测 数据来源:赛迪顾问 也正因为如此,现在的芯片设计已经离不开计算机设计软件EDA的辅助。西门子EDA全球副总裁、中国区总经理凌琳就表示:“我进入这个行业的时候主流工艺仍然是0.25μm、0.18μm,现在已经演进到5nm、3nm。整个行业的工艺技术演进速度非常快,这是全体从者业共同努力的结果。EDA作为产业链上游的一个环节,涉及从设计到制造,从测试到量产的所有环节,是产业链中重要的一个部分。” Cadence公司中国区总经理汪晓煜也指出,现在的芯片设计越来越复杂,GPU、CPU、DPU等超大规模和大算力SoC芯片的制造工艺基本采用了16nm、12nm、7 nm,甚至5 nm,根本离不开EDA工具的辅助。从仿真到版图,从前端到后端,从模拟到数字再到混合设计,验证及系统仿真,以及后面的工艺制造,现代EDA工具几乎涵盖了IC设计的方方面面。 3D IC 毫无疑议是2021年集成电路领域最热门的技术之一,吸引到台积电、三星、英特尔、英伟达、AMD等几乎所有龙头厂商的全力进入。它的开发同样少不了EDA厂商的身影。“随着芯片制造工艺不断接近物理极限,异构集成的3D IC先进封装已经成为延续摩尔定律的最佳途径之一。3D IC将不同工艺制程、不同性质的芯片以三维堆叠的方式整合在一个封装体内,提供性能、功耗、面积和成本的优势,能够为5G、HPC、AI、汽车电子等领先应用提供更高水平的集成、更高性能的计算和更多的内存访问。然而,3D IC是一个新兴的领域,使用传统的脱节的点工具和流程对设计收敛会带来巨大的挑战,而对信号、电源完整性分析的需求也随着垂直堆叠的芯片而爆发式增长。”新思科技中国区副总经理许伟表示。 “3D IC今年特别热,也是EDA公司的发展重点。作为一个新的领域,3D IC还没有形成广泛成熟的设计分析方案。传统点工具组合形成的设计流程不再能满足产品设计要求,无法覆盖3D堆叠带来的复杂信号、热仿真等分析需求。这些年Cadence也在与客户积极进行探讨和实验,基于长期以来在先进设计、板级和封装领域的经验,提出解决方案,目前Cadence现已推出3D IC全流程的相关设计和仿真工具以至通用一体化的设计平台。”汪晓煜强调。 |




