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摘要 _1z|QC ~R`Rj*Q2Y VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 :!omog t@GPB]3[ <Sxsmf0" o<`)cb } 介质目录中的斜光栅介质 l2DhFt$!= U] 2fV|Hn DRldRm/ RB5fn+FiZ 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 N-x~\B! 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 O<3i6 '4PAH2&n 斜光栅介质的编辑对话框 B,sv! p+q5 +ahr-v^R< Mr}]P(4h cD-.thHO 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 Da)rzr|}>3 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 b P>!&s_ 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 4X2XSK4 斜光栅介质的编辑对话框 s5 2c`+ qp(F}@ O*3x'I*a ?^z!yD\ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 xO2S|DH{ 以下参数可用: h&7]Bp - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) b\zRwp - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) @MfuV4* - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) aqvt$u8 - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) Rd5ni2-nve /Kmzi9j+ 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 1sFTXl $9znRTFEj 斜光栅介质的编辑对话框 S~1>q+<Q S7-ka{S KlgPDV9mg }i1p&EN^ 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 0_HdjK 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 i2{xW`AcUh wj>mk 斜光栅介质的编辑对话框 $|v_ pjUu] R9SJ;TsE T`g.K6$b )u7*YlU\I 8y}9X v 首先,必须选择涂层材料。 uLYz!E+E 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 ~mc7O 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 W1X\!Y nG;wQvc 斜光栅的编辑对话框 0N3 cC4! Nw@tlT4 x^aqnKoJ%\ 4[za|t Wvl>i HB 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 @;}bBHQz{p 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 QRnkj]b ]%I cUd} 堆栈使用的评论 YV*s1t/ D%v4B`4ua' ]=p@1 }7CMXw
[ r]eeKV,{p 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 -ea>}S 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 .$+]N[-=
对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 OKfJ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 Ec| Gom? u-Pa:wm0- 斜光栅介质的采样配置 orn9;|8q wZVY h 斜光栅介质采样 .lfKS!m2 n(.y_NEgV! f3e#.jan 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 bs!N~,6h 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 0es[!
在右边,显示了介质的预览。 u2
a
U0k: 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 *6~ODiB FjIS:9^)t5 5Qhu5~,K C.V")D= 采样斜光栅#1 7QP%Pny% R6HMi#eF cZKK\hf< `e]L.P_e? 采样斜光栅#2 O(;K]8 Y-6
?x D.o|pTZ 6>v`6 采样斜光栅#3 /W'GX n XnrOC|P$ @cdd~9w 78>)<$+d 采样斜光栅#4 9ctvy?53H 'EJ8)2 {4Y@DQ- IlsXj`!e 文档信息 (Da/$S. ep .AW'+ ,wE]:|`qJ . $uvQpyh 5R}Qp<D[^ QQ:2987619807 ;4tVFqR
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