-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2024-06-13
- 在线时间1280小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
在本示例中,模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示: @ RX`> r{_ Xq%*#)M;
?%;B`2 nDR a
8-;
掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方,位于相移区域。 6`W|V+6|7 Z"N(=B 由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式),在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签,以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后,就可以描述传入区域,就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入,光线的传输方向为+Z方向。 ]umZJZ#Y "uS7PplyO 相位分布如下图所示: 1gk0l'.z 3FY_A(+
,5kvn O(Td:Zdp 相移区域的影响清晰可见,导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差: Un\Ubqi0 D{W
SKn
Ff&R0v t.L4%1OF Yg|"- QQ:2987619807 j`hNZ %a
|