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    [分享]光学薄膜分析与设计软件Essential Macleod [复制链接]

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    离线summer20200907
    实习生
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-02-23
    Essential Macleod是一套完整的光学薄膜分析与设计的软件包，它能在任一32位、64位微软窗口环境操作系统下运行（除了Windows RT）， 并且具有真正的多文档操作界面；它能满足光学镀膜设计中的各种要求；既可以从头开始设计，也可以优化已有的设计；可以模拟设计生产中的误差，也可以导出薄膜的光学常数，是当今市场上最完善的薄膜设计及分析软件。 %Bo/vB'  
    I |?zSFa  
    模块：Core模块+5个附加模块 h[SuuW  
    |RBgJkS;8  
    Core模块 :_%  
     `Tx1?]  
    Macleod核心模块是软件的最低配置，包含设计编辑器，数据、目标编辑器，输入/输出，材料管理，性能计算，优化和综合，和其它软件或硬件的数据交换，导纳轨迹，电场，辅助设计等，是整个软件包的基本构架。 ceDe!Iu  
    !tkP!%w  
    Core模块功能 -t, .A/?  
     ?3wEO>u  
    效能计算 @3/.W+  
     [.O 3z*[9#  
    Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外，也包括沉积密度、吸收，椭圆参数，超快参数 (群组延迟、群组延迟色散、三阶色散)和多光色散，也可以进行色彩计算。公差的计算是分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。 UC)-Fd  
    iol.RszlZ|  
    颜色计算 kETu@la}  
     0^VA,QkQ\  
    颜色计算包括色度坐标、显色指数、色纯度、主导波长、相对色温。图形包括色度坐标图、色调、用户自定义图。包括CIE 1931 和 1964 配色函数在内的许多标准光源选择是预先定义好的，而用户可以定制你所需要的参数的其它参数。可以根据导入的透射及反射数据计算作为波长函数的颜色参数，也可以作为目标进行优化。 jFBLElE  
     ssv4#8p3  
    设计和分析工具 @<5?q: 9.8  
     UwuDs2 t  
    包括导纳图，电场分布，等效折射率，吸收分布，应力，光的散射、特性包络、消偏振边带滤波器设计和诱导透过率。 0Bx.jx0?  
     ad).X:Qs  
    提取工具 tl|Qw";I  
     "pb,|U  
    n & k 提取工具提供了由量测测试薄膜的反射、透射频谱数据以决定薄膜或基底n 与k 的方法。 xyK_1n@b  
     je6H}eWTC6  
    反演工程 t =ErJ  
     _C3l 2v'I$  
    主要采用Simplex 局部优化方法，根据已镀膜的设计结构和光谱测试数据（至少一种），来确定其真实膜系结构及其与设计的差别。 tkBp?Wl  
     uUXvBA?l  
    公差 u:r'&#jb~@  
     \K+LKa)  
    Essential Macleod 的公差能力允许你探查设计相对于制造误差的灵敏度，可以比较不同的设计以挑选出最优者。 9IgozYj  
     SG1fu<Q6J  
    细化与合成 ;Ub;AqY  
     VY)!bjW.  
    Essential Macleod提供了6个优化和2个合成工具，膜层可以锁定或关联（膜层关联是更先进的分组形式可以把不连续的膜层关联在一起优化），堆积密度包含在细化工具下的简单下降法里面（可对折射率优化）。优化过程可以加入如选择的膜层的总厚度等不同的限制条件。Optimac和needle Synthesis方法可以优化多层膜，可加入多种材料合成优化。Context允许使用替代材料优化。 _Y '+E  
     E\2|  
    图表 )K2,h5zU  
     @GzEhv  
    Essential Macleod包括标准图片、动态图（参数的变化效应可立即看到）、三维图。 <4,n6$E  
     {FO>^~>l  
    导入与导出 iV5x-G`  
     _{z.Tu  
    剪贴板支持与其它应用程序的导入与导出数据，还可以导出数据到光学系统软件中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。 nmlQ-V-  
    \'I->O]  
    Runsheet模块 lg_X|yhL  
     tSK{Abw1B  
    这个工具可设计镀膜制程，包含机器配置编辑器以及跑单生成器。 =vx iqRm  
    IP'gN-#i  
    机器配置编辑器 P!q U8AJkt  
     N5u.V\F!z\  
    机器配置中贮存了特定镀膜机的详细设置，监控系统，入射角，材料，监控芯片，加工因子（包含随光源损耗变化的动态加工因子）。 HCHZB*r[  
    = 8F/]8_  
    Runsheet h$)},% e  
     Ay'2! K,I  
    使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置，进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外，还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 (;2J}XQvO~  
    G<9UL*HU  
    •对反射、背向反射和透射监控计算光学信号 trL:qD+{(  
    •当膜层沉积时，动态加工因子（Dynamic Tooling Factors）可以不同 WyH2` xxX  
    •使用偏移和放大控制可以使信号数据缩小或放大到用户自定义范围 "71@WLlN  
    •对每一膜层，监控波长、带宽、监控光谱、晶控或光控都可以用户自定义 juPW!u  
    •在镀膜的任何阶段，监控芯片可以更换 `RUOZ@r  
    •多种配套的格式输出 ]J\tosTi  
    •提供图片和表格的监测数据可以输出到用户自定义报告格式 wjGD[~mB  
    W)^0~[`i  
    Simulator模块 eC:?j`H -  
     :d7Ju.*J  
    对于公差问题， Simulator 通过蒙特卡罗（Monte Carlo）法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划， Simulator 可模拟薄膜淀积控制，引入随机和系统效应，例如信号噪声，加工因子的变动，封装密度误差等等，以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 %jKbRiz1u  
    z mvF#o  
    Monitorlink模块 AyZL(  
     *C*n( the  
    Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接，而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 {e4`D1B  
    VStack 模块 9$7tB  
     %k(V 2]WF  
    VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时，初始为p- 偏振态的光线最终会以p - 偏振态从系统出射。同理，原本是s - 偏振态光也会以p - 偏振态出射，我们称此为偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 JiL%1y9|  
    &UtsI@Mu  
    Function模块 o@6:|X)7  
     Op^r}7  
    函数扩展功能无macleod计算中的限制，Function有两个主要工具：第一是简单的宏语言可在软件表格中运行，另一个是强大的Basic脚本语言。 $Il?[4FF  
     0U'g2F>{  
    宏语言可以保存和调用。Operation可以使阵列数据作为变量并可进行所有必要的插值。Operations可以创建黑体辐射光源，对于柯西材料模型可提取n和K数据，很容易的计算如平均或峰值特性等庞大计算量。其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。 c` ^I% i  
     ndEW$?W,  
    L=W8Q8hf  
    <igsO  
    脚本是比Operations功能强大但更复杂的的脚本编辑。脚本可以调用Macleod作为物的实体，并运行它的命令可以插入到工具栏中，存在两个强大的编辑器，一个是可以使用BASIC脚本编辑器，另一个允许是允许用户与程序包内置的对话框交互的脚本编辑器。 *I 7$\0Q  
    A7!!kR":  
    A;E7~qOG  
    脚本也兼容OLE 的外部程序如Microsoft Word软件。软件提供了许多预先编辑好的脚本，如创建新的光源，如对不同的模型创建纳米复合材料，如OLED特性计算，膜层表面3维数据收集，非均匀表面效应的计算。 1DPgiIG~  
     Jybx'vZj  
    71i".1l{K  
    DWDM Assistant模块 ^W-03  
     KF&1Y>t=  
    在多腔滤波器设计中，特别是针对密集波分复用，用DWDM 助手可以避免单调的重复过程。DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片，以满足用户的不同规格，设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间、扰动特性等等规范排序。 JR='c)6:  
     ajFSbi)l  
    S~auwY,<  
    通过扰动优化算法，增加只是由1/4 波长厚度的膜层组成的结构，减少通带中的脉动，使DWDM助手中使用的对称周期技术功能增强。一般来说，对给定要求的滤波器，有许多的设计都满足要求，但DWDM 助手可以按评价标准对设计结果进行排列。 S'"(zc3 =  
     7XLz Ewa  
    G%N3h'zDi  
    X2PQL"`  
    试用索取QQ：939912426
     
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    只看该作者 1楼 发表于: 2021-04-08
      好东西哦..发个软件啦
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