空间光调制器(SLM.0002 v1.1) nK`H;k .M s$)1 应用示例简述 AZ
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us}U 1. 系统细节 I:WPP'L4o 光源 lNMJcl3 — 高斯光束 \[
W`hhJ 组件 k>=wwPy — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 OKA6S* 探测器 L+Gi — 视觉感知的仿真 ZU`HaL$ — 电磁场分布 4{h^O@*g 建模/设计 Yc5<Y-W — 场追迹: gX(8V*os^ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ]d*O>Pm c^R "g)gr 2. 系统说明 212 =+k P0rdGf 5T %;#9lkOXWH 3. 模拟 & 设计结果 N6v*X+4JH O]l-4X#8F 4. 总结 _zLEHEZ-
qc3?Aplj 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 I#xhmsF *7qa]i^] 第1步 _k5$.f:Yj< 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 u@aM8Na _+gpdQq\p 第2步 bBQHxH}vi 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 M#yUdl7d iHWt;] 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 hysxHOL
BT(G9Pj; 应用示例详细内容 ?[
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nZ`=Up p) 系统参数 .yb8<q s
vIFx'S~D 1. 该应用实例的内容 +EZr@ 0qBXL;sE fVZ_*'v 2. 设计&仿真任务 r<*Y1;7H'
z=LO$,JW` 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 gIcPKj"8${ 7VJf~\%1j 3. 参数:输入近乎平行的激光束 l4OPzNc' vf`] ~5Rh7 4. 参数:SLM像素阵列 bL5dCQxty
&0mhO+g vw` '9~ 5. 参数:SLM像素阵列 -Q!?=JNtQ =IIE]<z l_x>.' a 应用示例详细内容 qche7kg!a
s3M#ua#mX 仿真&结果 :Czvwp{z
b;I!CyD 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM S*rc XG6Q^ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 vaZ?>94 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 GF
Rd:e UOIZ8Po 2. VirtualLab的SLM模块 qxD<mZ@-R0
%;G!gJeE
y] ~X{v
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 ~0 n9In%
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 X .S8vlb4z
n]btazM{ 3. SLM的光学功能 Fw;Y)y=O
QLTE`t5w3' 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 W&^2Fb 为此,将区域填充因子设置为60%。 yDw^xGws 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 L G9#D II_MY#0X 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd H
%PIE1_ dnTXx*I: 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Iyvl6 ,#-^ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd #D!3a%u0 k4nA+k<WI` 4. 对比:光栅的光学功能 __||cQ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 jfrUOl'l 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 2!Ex55 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 ~LzTqMHM 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 ';7|H|,F 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 8%#uZG\}
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v]27+/a$c 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd
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WJL,L[XC 5. 有间隔SLM的光学功能 y/2U:H 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 Afa{f}st `P4qEsZE>` 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd k
.l,>s`! mwTn}h3N 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 _V|'iz9. JGD{cr[S K+mtuB]yr 6. 减少计算工作量 wh:`4Yw }Mo9r4}
Vd^`Hv&i 采样要求: p:ST$ 1 K 至少1个点的间隔(每边)。 cw <DM%p 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 :<IW' F]?$Q'U 采样要求: Tm^zoVi 同样,至少1个点的间隔。 )Bk?"q 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 .]H]H *wC 随填充因子的增大,采样迅速增加。 [l5"'{x Bv@m)$9\+3 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 90aPIs- 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 r5iO%JFg 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 U w`LWG3T 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 P [nWmY mLY * <p0$Q!^dK=
|H_)u 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
(\/HGxv 7. 指定区域填充因子的仿真 @7^#_772
8rp-XiW 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 pmW=l/6+V3 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 Nyqm0C6m^ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ZJ[ Uz_%W 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 A# M 1v\-jM" F5<{-{Ky
8. 总结 C${TC+z 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 >6DY3\ Gj_b GqF8} 第1步 Ju9v n44 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 !d0@^JbM" "^D6%I#T 第2步 cT0g, ^& 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 M7>\Qk 扩展阅读 !3&vgvr 扩展阅读 !yI)3;$* 开始视频 L2h+[f - 光路图介绍 z"O-d<U5 该应用示例相关文件: M{4_BQ4$ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 zm .2L
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