Zemax OpticStudio 20.3 现已发布! uN`ACc)ESi
新增功能介绍 cJ[n<hTv
1. 工具、功能和性能 6 #{=
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1.1 优化速度提升 (所有版本) #4cuNX5m%
阻尼最小二乘法优化速度提升达 3-5 倍! },f7I^s|
OpticStudio 20.3 中对核心算法进行了 10 年以来的第一次重大提升!当使用阻尼最小二乘(DLS)优化算法时,多数用户将看到 3 至 5 倍的速度提升。该速度的提升是对 DLS 算法的多线程的改进,因此提速程度是基于评价函数操作数的个数和使用的电脑核数的。它不改变计算任一操作数时的速度。如果某个操作数的计算时间是整个优化速度的瓶颈所在,则不会有明显的速度提升。该速度提升与用户所使用的电脑和系统的细节情况十分相关,可能有更高或更低的速度提升,这取决于各自的情况。 &kO4^ A
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1.2. 新的 CAD 库 (仅专业版和旗舰版) ^R<= }
新的 CAD 库不仅提升了使用 CAD 零件的性能还提高了使用 CAD 零件的速度。 /VJ@`]jhDf
此版本包含了新的 CAD 库,可提高在 OpticStudio 内部使用 CAD 零件的性能和速度。除了消除多数以前存在的与 CAD 相关的错误之外,用户在使用 CAD 零件进行光线追迹时,还应看到速度提升 ~10 倍。该速度提升将随 CAD 零件的数量以及 CAD 几何形状的复杂程度的不同而不同。 7<