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1.概述和背景 /\0g)B;] g#/"3P2H Shintech开发了新功能,尤其对LC透镜研究和设计很有帮助。 AkE(I16Uy~ zo>@"uH4 【LC透镜需要thicker cell gap】 g<(\# F}/ U1^3 &N8 LC透镜有较高的延迟值,超过几千纳米,间隙厚度需要做得更厚来得到更高的阻滞值。 f\U(7)2 M!)~h<YL 【LC材料与电场】 3JJEj1O _(%;O:i LC材料响应电场,更厚的间隙带可以产生更高的应用电压,这样,LC透镜就要求高电势差。 yJn<S@)VT: ,z0~VS:g 8 wXKg^%t\ :'0. LC透镜需要高电势差 x@*!MC# 2{;~Bgd 2.高阻膜和频率 DO{Lj#@ O=;}VZ<9 有两种模拟方法,一个是dynamics,另一种是statics,statics通常用来获得V-T曲线图,这里我们需要考虑statics模拟方式中电压的意义。电压频率应该为0[HZ],换句话说,statics是在DC假设的条件下计算出来的。 SWWeN#Q 0 F-db 我们将AC假设和高阻材料加入到新静力学中。LC透镜研究人员在此条件下成功地减少了应用电压,此为一个很大的设计技术革新。 = Y`e?\#` fDD^?/^ Shintech LCD Master只能用AC假设的static和高阻材料来模拟LC透镜 &cHA xker O@-|_N*;K 3.举例 k|D =Q /k O
<o& 下图绿色部分表示高阻层,红色线表示电极。 Q8 !l5& |