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    [分享]激光等离子体13.5nm极紫外光刻光源进展 [复制链接]

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    离线gangzi0801
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-06-10
    摘要:半导体产业是高科技、信息化时代的支柱。光刻技术,作为半导体产业的核心技术之一,已成为世界各国科研人员的重点研究对象。本文综述了激光等离子体13.5 nm极紫外光刻的原理和国内外研究发展概况,重点介绍了其激光源、辐射靶材和多层膜反射镜等关键系统组成部分。同时,指出了在提高激光等离子体13.5 nm极紫外光源输出功率的研究进程中所存在的主要问题,包括提高转换效率和减少光源碎屑。特别分析了目前已实现百瓦级输出的日本Gigaphoton公司和荷兰的ASML公司的极紫外光源装置。最后对该项技术的发展前景进行了总结与展望。 L-  -  
    w7H.&7rF  
    关键词:13.5 nm极紫外光刻技术;激光等离子体;极紫外光源;转换效率;光源碎屑;预脉冲激光
    附件: 激光等离子体13.5nm极紫外光刻光源进展.rar (2455 K) 下载次数:29 ,售价:2光币[记录]
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    mang2004 光币 +6 - 2020-06-11
     
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    只看该作者 1楼 发表于: 2020-06-10
    已下载,学习一下!
    离线bluelalal
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    只看该作者 2楼 发表于: 2020-07-29
    正好需要前来学习
    离线bluelalal
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    只看该作者 3楼 发表于: 2020-07-29
    正好需要
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    只看该作者 4楼 发表于: 2020-07-29
    感谢感谢!
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    只看该作者 5楼 发表于: 2020-07-29
    可以可以
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    只看该作者 6楼 发表于: 2020-07-29
    感谢感谢! c@RMy$RTF