我这里有一篇关于霍尔源的文章,拿出来大家分享吧! JA}S{
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关于霍尔离子源的几个问题 {Uik|
尤大伟 任荆学 黄小刚 武建军 E`oSi
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(中国科学院空间中心 北京8701信箱 100080 ) N%|^;4}k
Several concerning about Hall Ion Source for assisted deposition. ,2=UuW"K
You dawei Ren jingxue Huang xiaogang Wu jianjun B ]|5?QP-
(Soace Science and Application Research Center Academy Cinica P.O.Box8701 Beijing 100080 P.R.China ) ?3]h~(=
Abstract: the object of our efforts is to improve design of Hall Ion Source in order to obtain broad energy range, large ion beam current, low gas cost, low contaminations and automatic control performances. +W V@o'
摘要:本文目的在于改进霍尔源的设计,实现宽能、大束流、低气耗、低污染、能自动化控制的新一代霍尔源。 ^ %~Et>C
关键词:光学镀膜,离子束辅助镀膜,等离子体加速。 E&RoaY0
一、 前言 h1Ke$#$6
我们设计制造了6cm霍尔等离子源。该源的主要性能如下: \_iH4<#>
源尺寸Ф14cm×14cm;真空室直径700-1000mm;照射距离30-50 cm;离子束平均能量40-120ev;离子束流可到1000ma;工作压力<4×10-2Pa ;磁场:永久磁铁;气体流量5-15 Sccm。经过改进,我们扩大了平均能量范围40-150ev,离子束流可达到1200ma,也降低了气耗。 8r7/IGFg
我们采用了与众不同的磁场设计{1},流行的磁场是从中心引出向端部发散,而本磁场是沿着阳极边缘引出向端部发散。这种磁场有利于提高气体效率及放电效率。离子流与放电电流比可达到1/3。可在较低气压(1×10-2-2×10-2Pa)及较小气流量Ar5-10Sccm下运行。 f9h:"Dnzin
我们尽知,该离子源是通过磁场加速及电场加速的二种过程,磁场加速只发生在端部,在阳极前一个电子回旋半径范围内进行,而在锥形阳极前获得电场加速。因此,离子束的能散度较大。通常离子束平均能量为0.6Va,其中Va 为所施加的阳极电压。离子束能量的均方根能散为0.3 Va 。对于流行的Mark-2产品而言,所能采用的阳极电压是70-170V,相应离子束能量是40-100ev。该能量对于光学镀膜某些产品稍嫌不足。但使用更高阳极电压将引起放电不稳定,是不可取的。使放电不稳定的主要因素是因为在离子产生区内没有足够的电子可供进气原子的电离,产生放电等离子体。该电子是下游放射的电子经磁场的非正常扩散的回流进入上游放电区的电子。为了扩大离子束能量范围,必须对影响电子回流的诸因素进行讨论。 8.Pcr<