Zemax光学设计从入门到精通	《杂散光抑制与评估技术》	Zemax光学设计实践基础(陈家璧)	光学设计与光学元件
讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商	现代光学设计及应用(Zemax)	CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape	计算光学带来的成像革命(第2季)

发帖回复

3230阅读
2回复

[讨论]类流式细胞设计物高外位置进入成像区及整形虚影现象 [复制链接]

上一主题下一主题

离线囧怀恋人生

高级工程师

发帖: 93

光币: 9214

光券: 0

只看楼主倒序阅读楼主发表于: 2019-04-19

各位坛友大家伙，我是做检测仪器中光学设计的，当前遇到两个难题，希望能借助大家力量改进下。
问题1：--附图1
A.描述：
（1）设计类似流式细胞仪，在与入射光成90度位置接收散射光，探测器为普通APD；
（2）照射光束为整形细激光通过光路；
（3）散射接收光学系统设计物高为附图1总红色有效区域。
B.理论情况：
（1）在无散射物质时，在PD位置处应观察不到光斑；
（2）再有散射物质后，在PD位置处应能观察到一明显光斑。
C.实际情况：
（1）在调试过程中发现（此时无可产生散射物质）：观察到中心位置无光斑（红色物高设计区域成像），但边缘有两红色光斑；
（2）非设计区进入PD导致背景噪声增加，在进行低浓度物质测量时效果不好。
D.猜测产生原因：
（1）石英杯两侧光束穿过区域（黑色线）也被散射透镜系统接收。
E.求助点：
(1）设计中如何才能避免非物高区域也被PD接受。

问题2：--附图2
A.描述：
（1）LED光源经过矩形整形光阑，希望在照射区得到特定尺寸光斑；
（2）矩形整形光阑为黑色哑光样机氧化机械件；
B.理论情况：
（1）在照射区得到理论计算光斑；
（2）外形尺寸维持一致。
C.实际情况：
（1）在照射区理论尺寸光斑边缘浅色虚影光斑（比中心区亮度弱很多）；
D.猜测产生原因：
（1）矩形边缝处衍射；
（2）矩形光阑内部处理不当，导致杂光出射。
E.求助点：
(1）几何结构整形中如何才能避免产生虚影，只得到想要尺寸光斑。

本主题包含附件，请登录后查看, 或者注册成为会员