光学小菜鸡:磁控溅射镀膜资料
(2021-10-15 21:12) 
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H K
kZ}u 磁控溅射的资料真没有。
9Gws Q \ 这东西就是个大号离子源，用离子源轰击靶材，然后靶材溅出到基板表面堆积成薄膜。
;wxt< S : uEK 有两种磁控溅射，一种是直接溅射成薄膜，一种是先溅射单质，然后氧化或者氮化形成薄膜。
N6[^62 <3x#(ms!! 磁控溅射比蒸发镀膜，一个是轰击用的“子弹”不一样，氩的重量是电子的几个数量级，
xi\RUAW 所以轰击出来的颗粒初速度要比蒸发出来的高非常多，堆积的致密性也要高很多。
}gi' %e 所以磁控溅射可以不考虑方向性（基板竖着横着都可以），不用加热，镀膜速率高。
hNo>)$v!s EI.Pk>ZIm 但是磁控溅射的控制很麻烦，蒸发镀膜普遍使用的水晶，光控都不太好做进去。
({VBp[Mh 一般用时间来控制
