[讨论]说说大家最想要的资料，跟贴前10贴有光币奖励。 [复制链接]

ouyuu:[表情]……其实大部分问题都出自副厂配件和维护的不当。 'O 7>w%#  
很多时候解决问题就是踩坑，填坑的过程。
最好的办法就是具体情况具体分析， WQ{^+C9g'1  
....... (2021-02-19 23:54)  TD/ 4lL~(x  

x45F-w{  
，好像是这样的哦，有时候我也是

有关像差计算的

有溅射镀膜原理的资料吗

yuyujcd:有溅射镀膜原理的资料吗 (2021-08-25 17:17)  a2eE!I  

;]W@W1)$  
暂时没有。

有没有适合新手的zemax学习资料

期待中....

磁控溅射镀膜资料

光学小菜鸡:磁控溅射镀膜资料 (2021-10-15 21:12)  m xqY  

*ifz@8C }  
磁控溅射的资料真没有。 keFH CC  
这东西就是个大号离子源，用离子源轰击靶材，然后靶材溅出到基板表面堆积成薄膜。 5~j#Z (}u  
e.~11bx  
有两种磁控溅射，一种是直接溅射成薄膜，一种是先溅射单质，然后氧化或者氮化形成薄膜。 T^(> 8/O  
=1@LMIi5x  
磁控溅射比蒸发镀膜，一个是轰击用的“子弹”不一样，氩的重量是电子的几个数量级， } `5k^J$x  
所以轰击出来的颗粒初速度要比蒸发出来的高非常多，堆积的致密性也要高很多。 @bJIN]R  
所以磁控溅射可以不考虑方向性（基板竖着横着都可以），不用加热，镀膜速率高。 FSn3p}FVa  
AV7#,+p%G  
但是磁控溅射的控制很麻烦，蒸发镀膜普遍使用的水晶，光控都不太好做进去。 @&Bh!_TWc  
一般用时间来控制

ouyuu:磁控溅射的资料真没有。 >Vjn]V5y  
这东西就是个大号离子源，用离子源轰击靶材，然后靶材溅出到基板表面堆积成薄膜。
有两种磁控溅射，一种是直接溅射成薄膜，一种是先溅射单质，然后氧化或者氮化形成薄膜。 YnRO>`
  
....... (2021-10-16 16:24)  X<$Tn60,  

]JYE#F  
谢谢版主分享！学习到了。

DWDM和CWDM的相关资料有吗？包括设计和使用的方面。