UID:304605
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morningtech:晶控仪测量速率,并且只能通过调节功率来调整速率(PID)。(调节功率来调整沉积速率,容易理解和实现。) 4Y Xtl+G 而无视光斑、扫描、材料多少、真空度等工艺参数,因为晶控仪还没有调整这些参数的手段和方法。 UVxE~801Y 光斑位置,扫描频率和幅度,材料蒸发有什么特点、能做多厚膜,材料减少过程 .. (2019-07-15 19:59) 1Jd82N\'
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ouyuu:能调的也就晶控的PID参数了。 :\4O9f*5+ 你的情况,如果没法用大一点的坩埚,那只能分两个坩埚镀膜了。 u52;)"&=) (2019-07-17 23:09) (/ k, q
qqcheng:确实因素多,忽然想起您说的离子源问题对晶控有影响,这也是光控的好处。以实际情况排查是最可靠的,遇到过因冷却情况的,还有晶控线针头式接触的,贪图低价货晶振片划痕,针孔的,频率降的极快。对了,您能给个联系方式我吗?[表情] (2019-07-19 04:54) ]]7s9PCN
qqcheng:嗯,您说的也对 (2019-07-19 04:59) N]5-#
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