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    [求助]离子源前处理时间问题 [复制链接]

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    离线wpawj
    实习生
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 05-16
    关键词： 离子源
    请教一下，镀膜前的离子源前处理时间多长合适，有什么依据或者判定标准吗？
     
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    离线ouyuu
    论坛版主
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    光券
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    只看该作者 1楼 发表于: 05-17
    和离子源能量强度有关，哪怕同一个离子源，新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 g<-cHF  
    1，用氧离子氧化表面的脏污（脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧，氧化后都变成气体挥发了） ~!OjdE!u  
    2，用重离子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的结合力。 *dl@)~i  
    所以也和你清洗效果，清洗方式，镀膜温度，镀膜材料有关。 RinRQd  
    共1条评分 ，光币+1
    xzaxd 光币 +1 优秀文章，支持！ 05-17
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    离线zhangsui666
    实习生
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    光券
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    只看该作者 2楼 发表于: 05-17
    一般来说轰击15分钟左右就够，但是还是在进炉前清洗工作一定要仔细，离子源主要为了辅助沉积。
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