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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) F<'@T,LVc 577H{;pW 内容简介 gAcXd<a0
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 -]1F]d 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 F-MN%WD~ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Pb05>J3N h= uv4& 0QE2e'}}-
s`2Hf&%aZJ 目录 S|U/m m Preface 1 ;x.xj/7 内容简介 2 HtWuZq;w 目录 i &5fM8Opkd 1 引言 1 <a@'Pcsk 2 光学薄膜基础 2 vM5u]u! 2.1 一般规则 2 :Gyv%>. 2.2 正交入射规则 3 KF' $D:\ 2.3 斜入射规则 6 T\g%. 2.4 精确计算 7 Xne{:!btw 2.5 相干性 8 XP
Nk#" 2.6 参考文献 10 S<Zb>9pl 3 Essential Macleod的快速预览 10 jPG&Ypm1 4 Essential Macleod的特点 32 fL[(;KcAa 4.1 容量和局限性 33 0)}bJ,5/ 4.2 程序在哪里? 33 4%#C _pE9 4.3 数据文件 35 b<UZDy N~ 4.4 设计规则 35 ~`Q8)(y<#$ 4.5 材料数据库和资料库 37 a=LjFpv/] 4.5.1材料损失 38 W (N@`^ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 !|P>%bi 4.5.2 材料库 41
sWp]Zy 4.5.3导出材料数据 43 q5il9*)d( 4.6 常用单位 43 m7z6c"?lB 4.7 插值和外推法 46 9o7E/wP 4.8 材料数据的平滑 50 rf.w}B;V; 4.9 更多光学常数模型 54 Q>y2C8rnJ/ 4.10 文档的一般编辑规则 55 SooSOOAx[ 4.11 撤销和重做 56 Vw7NLTE}` 4.12 设计文档 57 k8E'wN 4.10.1 公式 58 31b9pi}nf 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 _aOisN{ 4.10.3 沉积密度 59 RFyeA.
N 4.10.4 平行和楔形介质 60 yw'b^D/ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 K9Dxb 4.10.4 性能 61 !@E=\Sm8EV 4.10.5 保存设计和性能 64 1-C 2Y` 4.10.6 默认设计 64 ]Y!$HT7\ 4.11 图表 64 "y@B| 4.11.1 合并曲线图 67 ;kO
Op@e 4.11.2 自适应绘制 68 D@T>z; 4.11.3 动态绘图 68 M~Tq'>Fn 4.11.4 3D绘图 69 8E`rs)A 4.12 导入和导出 73 Cg NfqT0 4.12.1 剪贴板 73 LO8V*H( 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 oy90|.]G 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 M|e
Qds 4.13 背景 77 l_JPkM(mJw 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 /I~iUND"G 4.15 生成Rugate 84 nU$;W 4.16 参考文献 91 4}sfJ0HhX 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 8/Z 5.1 Jobs 92 2T!pFcc 5.2 创建一个新Job(工作) 93 o@[yF< 5.3 输入材料 94 `A O_e4D0i 5.4 设计数据文件夹 95 kDuN3 5.5 默认设计 95 mx s=< 6 细化和合成 97 T1ZAw'6(K
6.1 优化介绍 97 &CW,qY,sh 6.2 细化 (Refinement) 98 =\7o@ 38 6.3 合成 (Synthesis) 100 MH|!tkW>: 6.4 目标和评价函数 101 w|?<;+ 6.4.1 目标输入 102 OgjSyzc 6.4.2 目标 103 (C/2shr 8 6.4.3 特殊的评价函数 104 DYlu`j_ux 6.5 层锁定和连接 104 }9[E+8L1 6.6 细化技术 104 2<Lnfc<^k 6.6.1 单纯形 105 b`N0lH.V 6.6.1.1 单纯形参数 106 L2Ynv4llm 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 der'<Q.U:k 6.6.2.1 Optimac参数 108 'r6s5 WC 6.6.3 模拟退火算法 109 }=Yvs) 6.6.3.1 模拟退火参数 109 #N\kMJl$l 6.6.4 共轭梯度 111 Afi;s., 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 E/9h"zowS 6.6.5 拟牛顿法 112 o9+"6V|. 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 &VtTUy} 6.6.6 针合成 113 xwG=&+66 6.6.6.1 针合成参数 114 ]Ga }+^ 6.6.7 差分进化 114 RYzDF+/ 6.6.8非局部细化 115 e,/b&j*4th 6.6.8.1非局部细化参数 115 v5U\E`)s 6.7 我应该使用哪种技术? 116 +$M%"=tk 6.7.1 细化 116 VA*~RS 6.7.2 合成 117 jt-Cy 6.8 参考文献 117 \"B oTi'2! 7 导纳图及其他工具 118 WT$m*I 7.1 简介 118 K@lZuQ.1 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 t b5k| 7.2.1 四分之一波长规则 119 `HXP*Bp# 7.2.2 导纳图 120 $@kGbf~k 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 kBYZNjSz 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 *x3";%o 7.5 斜入射导纳图 141 G+?@4?`z 7.6 对称周期 141 L<bZVocOb_ 7.7 参考文献 142 7:x%^J+ 8 典型的镀膜实例 143 6#P\DT 8.1 单层抗反射薄膜 145 EMME?OW$ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 sr%tEKba) 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 p#HbN#^Hy 8.4 W-膜层 148 "5*n(S{ks 8.5 V-膜层 149 Nx>WOb98
8.6 V-膜层高折射基底 150 K2PV^Y 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 0MDdcjqw 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 & |