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    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-09-15
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： daE/v.a4|  
    <.CO{L\e  
     {J%Na&D  
    >Bq;Z}EV  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 l <<0:~+q  
     "B*a| 'n!  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 iaQ[}'6!$  
     B]ul~FX  
    相位分布如下图所示： xcnHj1r-o'  
    !I-+wc{ss  
     =xQ 7:TB  
    KGxF3xS*7  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： `* "u"7e  
    oF,XSd  
     LO[1xE9  
    LG'JQGl5  
     R[LVx-e7'  
    QQ：2987619807 gP/[=:  
     
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