切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 光学手册（上、下册，李景镇） 光学元件微纳制造与精密检测技术 京东6.18购物红包，每天领三次！ 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 767阅读
    • 0回复

    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    技术专家
     
    发帖
    4741
    光币
    18081
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-09-15
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： 7B66]3v  
    "3Y0`&:D  
     QoT;WM Z  
    LZxNAua  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 |P?*5xPB  
     nAlQ7 '  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 + v:SM 9  
     -aCKRN85  
    相位分布如下图所示： FfT`;j  
    (TT}6j  
     Ml-6OvQ7g  
    c@L< Z`u  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： [ub e6  
    sK?twg;D*|  
     q'Pf]  
    bW(0Ng  
     j^RmrOg ,  
    QQ：2987619807 [j+sC*  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表