切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 光学手册（上、下册，李景镇） 光学元件微纳制造与精密检测技术 京东6.18购物红包，每天领三次！ 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 768阅读
    • 0回复

    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    技术专家
     
    发帖
    4741
    光币
    18081
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-09-15
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： Q pmsOp|  
    2^^=iU=!<|  
     dzkw$m^@^  
    HWVtop/  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 l3IWoa&sh  
     Zt3)]sB  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 E~ a3r]V/  
     Y X_ gb/A  
    相位分布如下图所示： mSo_} je(  
    t&(PN%icD  
     E~AjK'Z  
    3q?\r` a  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： ru7RcYRq  
    _Dwqy(   
     @GvztVYo  
    po}F6m8bX  
     ZZyDG9a>7  
    QQ：2987619807 D3x/OyG(  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表