[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 J:dNV<A^  
^:2>I$
 
目前要作一個發光表面 :auq#$B  
Q5c13g2
(c  
表面的發光強度由中間最強 6#Bg99c  
yJ2A!id  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 IFkU8EK&B  
w-5_Ru  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 BFPy~5W  
強度是高斯分佈沒有錯 &t@|/~%[  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 6BObV/S Jg  
zvKypx  
我想要的是 !$!"$-5  
TB#oauJm,  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 ee*E:Ltz\  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 p}lFV,V  
18JAca8Zs  
不知道大家能否給我些建議  ^^" Jm3iYR+,  
E|ZLz~  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ ym6gj#2m  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 S`&YY89{&  
NTL`9b  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 FOx&'dH%@  
2RC|u?+@  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup wc#E:GJcK  
%\2w 1  
在 Beam Setup 中 [:(
^n0%  
8e3I@mv  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian "`4V^1  
並且 (+ibT;!]  
Spatial weighting uniform flux/weighted position }{.0mu9  
QBI;aG<+b>  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 5g(`U+,*(  
_wKaFf  
但是 z<c%Xl\$%  
QZs ]'*=#  
光線的方向 c;dMXv   

O>H'ok  
在 Beam Setup 中 mjtmN0^SR  
A\v(!yg  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 OW|5IEC  
F+3}Gkn  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 efu'PfZ`&  
M'D l_dx-  
只能選擇一個光線射出的方向向量 2)zAX"#
/  
t+?m<h6w;l  
nPU=n[t8O  
所以關於小弟的需求希望 H${5pY_M  
?' :v):J}  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  qXw^y  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 ~d072qUos  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 6,q}1-  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 $)O=3dNbo  
j
aEUz5  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ KtO|14R:  
b&j}f  

你真农民啊。 ：） _P{f+HxU  
~]_U!r[FA  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 H-|%\9&{S  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. W Y]  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 Id}/(Pkq  
E;tEmGf6F  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 g]Jt (aYK  
如果小弟想要產生
@?vC4+'  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 e"D%eFkDW  
5w+KIHhN|  
?XIB\7}  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 _a#k3r  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : ~PI2G9  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 f4h~c  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. $uZmIu9Bi+  
R>*z8n  

g5|~i{"0  
_"ciHYHB
Q  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid RkE)2q[5  
Grid pattern 设成 random